特許
J-GLOBAL ID：201003040698488520

ビーム記録方法及び装置

発明者：
加園 修

加園 修 について

, 
熊坂 治

熊坂 治 について


出願人/特許権者：
パイオニア株式会社

パイオニア株式会社 について


代理人 (3件)： 藤村 元彦 ,  永岡 重幸 ,  高野 信司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-294793
公開番号（公開出願番号）：特開2010-135806
出願日： 2009年12月25日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：
【課題】ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高いビーム記録装置及び記録方法を提供する【解決手段】露光ビームを偏向する偏向工程と、露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、潜像パターンのうち、連続的な露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成する。ビーム偏向速度及び基板速度(線速度)を変化させるとともに、長いピット又はスペースを記録する必要が生じた場合にはビーム遮断を併用する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することにより、少なくとも一部にスペースを含む潜像パターンが形成された基板を製造する製造方法であって、 前記露光ビームを偏向する偏向工程と、 前記露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、 前記潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、前記長ピットの一部を形成し、前記長ピットの前記一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、前記長ピットの残部を形成することを特徴とする製造方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  H01J 37/305 ,  G11B 7/004 ,  G11B 7/125 ,  G11B 7/26
FI (5件)：
H01L21/30 541J ,  H01J37/305 B ,  G11B7/0045 A ,  G11B7/125 B ,  G11B7/26 501
Fターム (27件)：
2H097AA03 ,  2H097AB06 ,  2H097AB07 ,  2H097CA16 ,  2H097LA20 ,  5C034BB03 ,  5C034BB10 ,  5D090AA01 ,  5D090BB01 ,  5D090CC01 ,  5D090EE01 ,  5D090HH03 ,  5D090KK05 ,  5D121BB01 ,  5D121BB26 ,  5D121BB38 ,  5D789AA23 ,  5D789AA43 ,  5D789BB09 ,  5D789DA01 ,  5D789HA25 ,  5D789HA45 ,  5D789HA59 ,  5F056CB05 ,  5F056CB12 ,  5F056CB23 ,  5F056CB25
引用特許：
審査官引用 (4件)
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