結晶配向セラミックスの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-172758
公開番号（公開出願番号）：特開2010-100515
出願日： 2009年07月24日
公開日（公表日）： 2010年05月06日
要約：

【課題】特性をより向上することができる結晶配向セラミックスの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の結晶配向セラミックスを含む圧電/電歪体30の製造方法は、略立方体形状の粒子である擬立方体形状粒子31を作製する粒子作製工程と、作製した擬立方体形状粒子31を溶媒中に分散させる分散工程と、分散した擬立方体形状粒子31を所定の面方向に整列させたシード部32と、所望の組成となるよう調整したマトリックス粒子33により形成されるマトリックス部34と、を基体12上へ直接又は間接的に形成させる粒子部形成工程と、基体12上へ形成したシード部32及びマトリックス部34とを焼成する焼成工程とを含み、シード部32に含まれる所定の面方向に整列した擬立方体形状粒子31の結晶方位へマトリックス部34に含まれるマトリックス粒子33による結晶方位を倣わせることができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

略立方体形状の粒子である擬立方体形状粒子を作製する粒子作製工程と、前記作製した擬立方体形状粒子を溶媒中に分散させる分散工程と、前記分散した擬立方体形状粒子を所定の面方向に整列させたシード部と、所望の組成となるよう調整したマトリックス粒子により形成されるマトリックス部と、を所定の基体上へ直接又は間接的に形成させる粒子部形成工程と、前記基体上へ形成したシード部及びマトリックス部とを焼成することにより、該シード部に含まれる前記所定の面方向に整列した擬立方体形状粒子の結晶方位へ該マトリックス部に含まれるマトリックス粒子による結晶方位を倣わせる焼成工程と、を含む結晶配向セラミックスの製造方法。

IPC (7件)：

C04B 35/49 , C04B 35/626 , B28B 1/00 , H01L 41/09 , H01L 41/187 , H01L 41/24 , H01L 41/22

FI (7件)：

C04B35/49 R , C04B35/00 A , B28B1/00 C , H01L41/08 C , H01L41/18 101F , H01L41/22 A , H01L41/22 Z

Fターム (34件)：

4G030AA07 , 4G030AA16 , 4G030AA17 , 4G030AA20 , 4G030AA40 , 4G030BA10 , 4G030CA01 , 4G030CA02 , 4G030CA03 , 4G030CA08 , 4G030GA01 , 4G030GA07 , 4G030GA09 , 4G030GA16 , 4G030GA18 , 4G030GA19 , 4G030GA25 , 4G030GA27 , 4G031AA03 , 4G031AA11 , 4G031AA12 , 4G031AA14 , 4G031AA32 , 4G031BA10 , 4G031CA01 , 4G031CA02 , 4G031CA03 , 4G031CA08 , 4G031GA01 , 4G031GA02 , 4G031GA05 , 4G031GA06 , 4G031GA09 , 4G031GA11

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭62-072560
配向性強誘電体膜の製法及び圧電素子の製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-127439 出願人：太陽誘電株式会社
チタン含有セラミックス薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-097768 出願人：セイコーエプソン株式会社

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