特許
J-GLOBAL ID：201003040937054430

極紫外線(EUV)フォトリソグラフィ装置のチャンバ間のガス流を管理するシステム

発明者：
ビカノフ アレクサンダー エヌ

ビカノフ アレクサンダー エヌ について

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ブラント ディヴィッド シー

ブラント ディヴィッド シー について

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フォーメンコフ イゴー ヴィー

フォーメンコフ イゴー ヴィー について

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パートロ ウィリアム エヌ

パートロ ウィリアム エヌ について


出願人/特許権者：
サイマー インコーポレイテッド

サイマー インコーポレイテッド について


代理人 (6件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-522903
公開番号（公開出願番号）：特表2010-538456
出願日： 2008年08月15日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：
ターゲット材料から作り出され、かつ例えばリソグラフィスキャナ/ステッパによるEUV光源チャンバ外での利用に向けて集光されて中間領域に誘導されるプラズマからのEUV光を供給する極紫外線(EUV)光源を提供する。ガス流管理システムは、第1及び第2のそれぞれの空間を少なくとも部分的に取り囲む第1及び第2の囲い壁と、極紫外線光を放出するプラズマを第1の空間に発生させるシステムと、少なくとも部分的に通路を取り囲んで、EUV光が第1の空間から通路に入ることを可能にする第1の開放端とEUV光が通路を出て第2の空間に入ることを可能にする第2の開放端とを有し、かつ第1及び第2の端部に対して低減された断面積を有する位置を確立するように成形された、第1の空間から第2の空間への流れを制限する細長い本体と、細長い本体の第1の端部と低減された断面積を有する位置との間の地点で通路内にガスを導入するように位置決めされた開口を出るガス流とを含むことができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
極紫外線リソグラフィ装置のための流れ管理システムであって、 少なくとも部分的に第1の空間を取り囲む第1の囲い壁と、 極紫外線光を放出するプラズマを前記第1の空間に発生させるシステムと、 少なくとも部分的に第2の空間を取り囲む第2の囲い壁と、 少なくとも部分的に通路を取り囲んで、EUV光が前記第1の空間から該通路に入ることを可能にする第1の開放端とEUV光が該通路を出て前記第2の空間に入ることを可能にする第2の開放端とを有し、かつ該第1及び第2の端部に対して低減された断面積を有する位置を確立する形状を有する、該第1の空間から該第2の空間までの流れを制限する細長い本体と、 前記本体の前記第1の端部と低減された断面積を有する前記位置との間の地点で前記通路内にガスを導入するように位置決めされた開口を出るガス流と、 を含むことを特徴とするシステム。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (2件)：
H01L21/30 531A ,  H01L21/30 531S
Fターム (3件)：
5F046GB03 ,  5F046GB07 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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