リソグラフィー装置中の主要室ガスから光源ガスを分離する装置および方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-392310
公開番号（公開出願番号）：特開2004-172626
出願日： 2003年11月21日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】リソグラフィー装置で第1ガスと第2ガスが混合しない方法および装置を提供する。【解決手段】第3ガスを使用して第2ガスから第1ガスを分離する方法および装置であり、第1ガスにもとづく光を放射する素子を有する第1室、方法を実施するために放射した光を使用し、第2ガスを有する第2室、第1ガスと第2ガスを結合するガスロック、ガスロック中で第1ガスを第2ガスから分離するように、ガスロック中に第1ガスと第2ガスの間に第3ガスを供給するガス源を有する装置において、第1室から第1ガスおよび第3ガスを供給し、互いに分離して、第1ガスを循環させて放射した光を形成するために再利用する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

第1ガスにもとづく光を放射する部品を有する第1室、方法を実施するために放射した光を使用し、かつ第2ガスを有する第2室、第1ガスと第2ガスを結合するガスロック、およびガスロック中で第2ガスから第1ガスを分離するために、ガスロック中に第1ガスと第2ガスの間に第3ガスを供給するガス源を有する装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 531A , G03F7/20 521

Fターム (2件)：

5F046GA07 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (19件)

特開昭58-225636
特開昭61-179046
特開昭62-268048

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審査官引用 (20件)

特開昭63-292553
プラズマ・フォーカス高エネルギ・フォトン・ソース
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-127187 出願人：サイマーインコーポレイテッド
半導体製造工程用のリソグラフィ光源を提供するためのシステムおよび方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-617700 出願人：アドヴァンスドエナジーシスティムズインク

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引用文献：

出願人引用 (1件)

Mitigation of surface contamination from resist outgassing in EUV lithography

審査官引用 (1件)

Mitigation of surface contamination from resist outgassing in EUV lithography

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