プラズマに基づく短波長放射線の生成におけるデブリの抑制のための方法および装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤田アキラ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-117973
公開番号（公開出願番号）：特開2006-319328
出願日： 2006年04月21日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：

【課題】プラズマに基づく短波長放射線の生成におけるデブリの抑制のための方法および装置を提供する。【解決手段】緩衝ガス5が、放射線を通過させるために設けられる開口部に対して横方向に、デブリフィルタのフィルタ構造の内側に注入されることで達成される。フィルタ構造はプラズマ1の方向および放射線の伝播方向において流れ抵抗を生成し、真空室における圧力に対して、緩衝ガス5の増大したガス圧力がデブリフィルタの所定の体積層に制限されたままであり、デブリフィルタのフィルタ構造から出る緩衝ガス5は真空ポンプによって真空室から吸引される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

プラズマに基づく短波長放射線源におけるデブリを抑制するための方法であって、源位置としての前記プラズマから真空室内に放出された前記短波長放射線は、この放射線が中間焦点に放射線を集束するための集光光学系に達する前に、少なくとも1つの機械的なフィルタ構造を有するデブリフィルタによって案内される、方法において、緩衝ガス(5)が、前記放射線を通過させるために設けられる開口部に対して横方向に、前記デブリフィルタの前記フィルタ構造の内側に注入され、そこで前記フィルタ構造(41)は前記プラズマ(1)の方向および放射線の伝播方向にて流れ抵抗を生成し、前記真空室(6)での圧力に対して、緩衝ガス(5)の増大したガス圧力が前記デブリフィルタ(4)の所定の体積層(52;55)に制限されたままであり、前記デブリフィルタ(4)の前記フィルタ構造(41)から出る前記緩衝ガス(5)は真空ポンプ(61)によって前記真空室(6)から吸引されることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H05G 2/00

FI (2件)：

H01L21/30 531S , H05G1/00 K

Fターム (4件)：

4C092AA04 , 4C092BD18 , 4C092BD20 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (6件)

DE102 15 469 B4号明細書
米国特許第6,359,969 B1号明細書
米国特許第6,683,936号明細書

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審査官引用 (7件)

リソグラフィック装置及びデバイス製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-536823 出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
活性ガス及びバッファガス制御を有するプラズマ集束光源
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-502807 出願人：サイマー,インコーポレイテッド
フォイル・トラップを備えたレーザー生成プラズマ放射システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-187221 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

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