特許
J-GLOBAL ID：201003042053682775

感放射線性樹脂組成物

発明者：
下川 努

下川 努 について

, 
江畑 琢磨

江畑 琢磨 について

, 
酒井 香織

酒井 香織 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (3件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  菅野 重慶
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-182270
公開番号（公開出願番号）：特開2010-020204
出願日： 2008年07月14日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：
【課題】化学増幅型レジストとして好適に使用できかつ保存安定性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)下記一般式(1-1)または一般式(1-2)で表される酸発生剤と、(B)下記一般式(2)で表される酸拡散抑制剤と、(C)共重合体と、を含む感放射線性樹脂組成物である。〔一般式(1-1)および(1-2)において、R1はアルキル基等、M+は1価のカチオンを示す。R1aおよびR1bは相互に独立に有機基等Yは2価の有機基等を示す。一般式(2)において、R2、R3、R4はアルキル基等である。〕【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1-1)または一般式(1-2)で表される酸発生剤と、(B)下記一般式(2)で表される酸拡散抑制剤と、(C)共重合体と、を含む感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (3件)

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