ナノインプリント用硬化性組成物、パターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-159203
公開番号（公開出願番号）：特開2010-000612
出願日： 2008年06月18日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：

【課題】スピン塗布やスリット塗布に適していて、微細なパターン形成が可能であり、光硬化後の基板に対する密着性が高くて、レジストの剥離が容易であるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。【解決手段】1官能重合性化合物87質量%以上と、光重合開始剤とを含むナノインプリント用硬化性組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

1官能重合性化合物87質量%以上と光重合開始剤を含むナノインプリント用硬化性組成物。

IPC (5件)：

B29C 59/02 , C08F 220/12 , C08F 220/56 , C08F 226/00 , C08F 2/44

FI (6件)：

B29C59/02 Z , C08F220/12 , C08F220/56 , C08F226/00 , C08F2/44 C , C08F2/44 B

Fターム (38件)：

4F209AA24 , 4F209AA29 , 4F209AA33 , 4F209AA43 , 4F209AA44 , 4F209AB10 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PQ11 , 4J011AA05 , 4J011AC04 , 4J011BA03 , 4J011PA28 , 4J011PA29 , 4J011PA30 , 4J011PA99 , 4J011PC02 , 4J011QA03 , 4J011QA06 , 4J011QA08 , 4J011QA12 , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL10P , 4J100AL62R , 4J100AL63R , 4J100AL66R , 4J100AM15Q , 4J100AQ07Q , 4J100AQ08Q , 4J100BC43P , 4J100BC53Q , 4J100BC65Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA01

引用特許：

出願人引用 (6件)

米国特許第5,772,905号公報
米国特許第5,956,216号公報
米国特許第5,259,926号公報

全件表示

審査官引用 (2件)

光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-261451 出願人：富士フイルム株式会社
光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-249698 出願人：富士フイルム株式会社

前のページに戻る