特許
J-GLOBAL ID:200903040854619729
光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-249698
公開番号(公開出願番号):特開2008-105414
出願日: 2007年09月26日
公開日(公表日): 2008年05月08日
要約:
【課題】光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性(I)、塗布性(II)、エッチング適性のいずれにも優れた組成物を提供する。【解決手段】重合性不飽和単量体を88〜99質量%と、光重合開始剤0.1〜11質量%と、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも1種0.001〜5質量%とを含み、前記重合性不飽和単量体として、分子内にエチレン性不飽和結合を有する部位とヘテロ原子の少なくとも1種を有する部位を含有する1官能重合性不飽和単量体の1種を前記重合性不飽和単量体中10質量%以上含むことを特徴とする光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を採用した。【選択図】なし
請求項(抜粋):
重合性不飽和単量体を88〜99質量%と、光重合開始剤0.1〜11質量%と、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも1種0.001〜5質量%とを含み、前記重合性不飽和単量体として、分子内にエチレン性不飽和結合を有する部位とヘテロ原子の少なくとも1種を有する部位を含有する1官能重合性不飽和単量体の1種を前記重合性不飽和単量体中10質量%以上含むことを特徴とする光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物。
IPC (6件):
B29C 59/02
, C08F 2/44
, H01L 21/027
, C08F 20/10
, C08F 20/52
, C08F 26/02
FI (7件):
B29C59/02 Z
, C08F2/44 B
, H01L21/30 502D
, H01L21/30 502R
, C08F20/10
, C08F20/52
, C08F26/02
Fターム (55件):
4F209AA36
, 4F209AA43
, 4F209AA44
, 4F209AB10
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PQ11
, 4J011AC04
, 4J011FA07
, 4J011FB01
, 4J011FB19
, 4J011GA05
, 4J011GB04
, 4J011PA24
, 4J011PA47
, 4J011PA99
, 4J011PB32
, 4J011PB40
, 4J011PC02
, 4J011PC08
, 4J011WA01
, 4J011WA07
, 4J100AF10P
, 4J100AL08P
, 4J100AM17P
, 4J100AM21P
, 4J100AN04P
, 4J100AQ06P
, 4J100AQ08P
, 4J100AQ15P
, 4J100AQ19P
, 4J100BA03P
, 4J100BA11P
, 4J100BA31P
, 4J100BA42P
, 4J100BC02P
, 4J100BC04P
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100BC26P
, 4J100BC53P
, 4J100BC54P
, 4J100BC58P
, 4J100BC65P
, 4J100BC66P
, 4J100BC68P
, 4J100BC79P
, 4J100BC83P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100FA03
, 4J100JA37
, 5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (19件)
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審査官引用 (2件)
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