特許
J-GLOBAL ID：200903051772080599

光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者：
高柳 丘

高柳 丘 について

, 
佐々木 広樹

佐々木 広樹 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-261451
公開番号（公開出願番号）：特開2008-084984
出願日： 2006年09月26日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】モールドへの付着性が良好な組成物を提供する。【解決手段】(a)Q-eスキームにおける極性因子(e値)が正である重合性化合物を10質量%以上および前記e値が負である重合性化合物を10質量%以上含む重合性化合物を合計88〜99質量%と、(b)光重合開始剤0.1〜10質量%と、(c)界面活性剤の少なくとも1種0.0005〜5.0質量%と、を含む光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)Q-eスキームにおける極性因子(e値)が正である重合性化合物を10質量%以上および前記e値が負である重合性化合物を10質量%以上含む重合性化合物を合計88〜99質量%と、 (b)光重合開始剤0.1〜10質量%と、 (c)界面活性剤の少なくとも1種0.0005〜5.0質量%と、 を含む光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  C08F 2/46
FI (4件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z ,  C08F2/46 ,  H01L21/30 502R
Fターム (39件)：
4F209AA44 ,  4F209AB04 ,  4F209AB10 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AH75 ,  4F209AR17 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4J011QA03 ,  4J011QA04 ,  4J011QA06 ,  4J011QA07 ,  4J011QA08 ,  4J011QA09 ,  4J011QA13 ,  4J011QA15 ,  4J011QA22 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA34 ,  4J011QA38 ,  4J011QA39 ,  4J011QB24 ,  4J011SA01 ,  4J011SA21 ,  4J011SA63 ,  4J011SA64 ,  4J011SA75 ,  4J011SA78 ,  4J011SA87 ,  4J011UA01 ,  4J011UA02 ,  4J011UA03 ,  4J011UA04 ,  4J011WA01 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (4件)
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