特許

J-GLOBAL ID：201003044404867893

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法

発明者： 吉井 靖博 ,  竹下 優 ,  横谷 次朗 ,  齋藤 弘国 ,  中村 剛 ,  塩野 大寿 ,  太宰 尚宏
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-038649
公開番号（公開出願番号）：特開2010-197413
出願日： 2009年02月20日
公開日（公表日）： 2010年09月09日
要約：

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】塩基解離性基を含む構成単位(f1)と下記一般式(f2-1)[式中、Wは多環式の脂肪族環式基を含む基である。]で表される構成単位(f2)とを有する含フッ素高分子化合物(F1)と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

塩基解離性基を含む構成単位(f1)と下記一般式(f2-1)で表される構成単位(f2)とを有する含フッ素高分子化合物(F1)と、 酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、 露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  C08F 212/14 ,  C08F 220/28 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  C08F212/14 ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R

Fターム (49件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  4J100AB00P ,  4J100AB07P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA14P ,  4J100BA14Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BB10P ,  4J100BB17P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC49P ,  4J100CA03 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-356718   出願人：富士フイルム株式会社
• フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-034384   出願人：住友化学株式会社
• 光または熱重合性組成物および平版印刷版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-109099   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-163861   出願人：東京応化工業株式会社