特許

J-GLOBAL ID：200903063814833248

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者： 神田 博美 ,  漢那 慎一
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-356718
公開番号（公開出願番号）：特開2007-163606
出願日： 2005年12月09日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：

【課題】通常露光のみならず液浸露光によっても、良好なプロファイルを形成でき、広い露光ラチチュード(DOF)を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、および(D)溶剤を含有し、 樹脂(C)が、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれか及び脂環構造を有する樹脂(C1)、及び、側鎖にフッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する繰り返し単位及び側鎖に無置換アルキル基を有する繰り返し単位を含有する樹脂(C2)の少なくともいずれかであることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、および (D)溶剤を含有し、 樹脂(C)が、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれか及び脂環構造を有する樹脂(C1)、及び、側鎖にフッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する繰り返し単位及び側鎖に無置換アルキル基を有する繰り返し単位を含有する樹脂(C2)の少なくともいずれかであることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/004

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/075 521 ,  G03F7/004 501

Fターム (17件)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025CB51 ,  2H025CC03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特開昭57-153433号公報
  
• 国際公開WO2004-068242号パンフレット
  
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-150215   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特許第3202979号
  
• 特許第3672780号
  

審査官引用 (3件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-007759   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-367470   出願人：JSR株式会社
• レジスト組成物、および基板上にパタ-ン形成したレジスト層を形成する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-013834   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション