液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-163861
公開番号（公開出願番号）：特開2010-002870
出願日： 2008年06月23日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。【解決手段】塩基解離性基を有する構成単位(f1)および特定構造で表される構成単位(f2)を有する含フッ素高分子化合物(F)、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有する液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

塩基解離性基を有する構成単位(f1)および下記一般式(f2-1)で表される構成単位(f2)を有する含フッ素高分子化合物(F)、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有する液浸露光用レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 220/22 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , C08F220/22 , H01L21/30 502R

Fターム (23件)：

2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA15P , 4J100BB18P , 4J100BC02Q , 4J100CA04 , 4J100DA28 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (10件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-234584 出願人：JSR株式会社
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-170142 出願人：信越化学工業株式会社
液浸リソグラフィーのための組成物および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-284298 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

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