特許
J-GLOBAL ID：200903093241775503

フォトレジスト組成物

発明者：
安藤 信雄

安藤 信雄 について

, 
藤 裕介

藤 裕介 について

, 
武元 一樹

武元 一樹 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-034384
公開番号（公開出願番号）：特開2007-249192
出願日： 2007年02月15日
公開日（公表日）： 2007年09月27日
要約：
【課題】後退角が高く、かつ解像性能が良好な液浸用フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】樹脂(A)と樹脂(B)をそれぞれ1種以上ずつ含み、また酸発生剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。樹脂(A):(ア)酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、を1種以上含有し、(エ)’フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有しない樹脂。樹脂(B):(ア)’酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、(イ)’水酸基を側鎖に有するユニット、および(ウ)’ラクトン構造を側鎖に有するユニット、からなる群より選ばれる少なくとも1種を含有することに加え、(エ)フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有する樹脂。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
樹脂(A)と樹脂(B)をそれぞれ1種以上ずつ含み、また酸発生剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。 樹脂(A):(ア)酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、を1種以上含有し、(エ)’フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有しない樹脂。 樹脂(B):(ア)’酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、(イ)’水酸基を側鎖に有するユニット、および(ウ)’ラクトン構造を側鎖に有するユニット、からなる群より選ばれる少なくとも1種を含有することに加え、(エ)フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有する樹脂。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/10 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F220/10 ,  H01L21/30 502R
Fターム (42件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ00 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AR28P ,  4J100BA02S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA16R ,  4J100BA40R ,  4J100BB17S ,  4J100BB18S ,  4J100BC04P ,  4J100BC04S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC12P ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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