特許
J-GLOBAL ID：201003045309621280

イオン化装置及び方法

発明者：
大久保 衛

大久保 衛 について

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細川 好則

細川 好則 について

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松谷 貴臣

松谷 貴臣 について


出願人/特許権者：
株式会社ソダ工業

株式会社ソダ工業 について

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株式会社エックスレイプレシジョン

株式会社エックスレイプレシジョン について


代理人 (1件)： 藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-269019
公開番号（公開出願番号）：特開2010-096678
出願日： 2008年10月17日
公開日（公表日）： 2010年04月30日
要約：
【課題】高効率で安定性が良く安全なイオン化を実現可能なイオン化装置及び方法を提供する。【解決手段】X線管1と、ガス流路を流れるガスに接触する状態で設けられた金属薄膜2aとを備え、前記金属薄膜2aに前記X線管1からのX線5を照射して前記ガス流路中に光電子を放出するように構成する。金属体の金属薄膜にX線を照射したときに生じる電子をガス流路中に放出し、電界加速する構成を採用しているので、ガス流路によって形成される限定された空間(イオン化室をなす空間)内において電子とガス流路を流れる分子とを接触させることができ、ガス流路の流路断面積や断面形状等を適宜に設定することにより、安定したイオン化を容易に実現することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
X線管と、ガス流路を流れるガスに接触する状態で設けられた金属薄膜とを備え、前記金属薄膜に前記X線管からのX線を照射して前記ガス流路中に光電子を放出するように構成されたイオン化装置。
IPC (2件)：
G01N 27/64 ,  H01J 49/10
FI (3件)：
G01N27/64 B ,  H01J49/10 ,  G01N27/64 C
Fターム (9件)：
2G041CA01 ,  2G041DA02 ,  2G041DA12 ,  2G041DA13 ,  2G041DA18 ,  5C038GG01 ,  5C038GH02 ,  5C038GH04 ,  5C038GH11
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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