ポジ型感光性組成物及び永久レジスト

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：羽鳥修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-270972
公開番号（公開出願番号）：特開2010-101957
出願日： 2008年10月21日
公開日（公表日）： 2010年05月06日
要約：

【課題】透明性に優れ、アクティブマトリクス基板の絶縁膜としても使用できる高度の耐熱性、高熱履歴後の耐薬品性を有する永久レジストを提供できるポジ型感光性組成物並びに該ポジ型感光性組成物を用いた永久レジスト及びその製造方法を提供する。【解決手段】ポジ型感光性組成物は、(A)下記一般式(1)で表される基を、1分子中に少なくとも2個有するシリコーン樹脂、(B)グリシジル基を有するシロキサン化合物、(C)ジアゾナフトキノン類及び(D)有機溶剤を含有する。永久レジストは、上記ポジ型感光性組成物を基材上に塗布し、塗布物を露光し、アルカリ現像した後に、120〜350°Cの温度でポストベークして製造される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)成分として、下記一般式(1)

IPC (8件)：

G03F 7/075 , G03F 7/023 , G03F 7/40 , H01L 21/027 , H01L 51/50 , H05B 33/22 , G02F 1/133 , C08G 77/16

FI (8件)：

G03F7/075 521 , G03F7/023 , G03F7/40 501 , H01L21/30 502R , H05B33/14 A , H05B33/22 Z , G02F1/1333 505 , C08G77/16

Fターム (54件)：

2H025AA06 , 2H025AA07 , 2H025AA08 , 2H025AA10 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB33 , 2H025CC17 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H025FA30 , 2H090HB03X , 2H090HB07X , 2H090HB12X , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096BA10 , 2H096EA02 , 2H096GA09 , 2H096HA01 , 2H096HA03 , 3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC22 , 3K107CC24 , 3K107DD90 , 3K107DD97 , 3K107EE03 , 3K107FF17 , 3K107GG26 , 4J246AA01 , 4J246AB05 , 4J246BA01 , 4J246BB02 , 4J246CA12 , 4J246CA12U , 4J246CA13 , 4J246CA13U , 4J246CA23 , 4J246CA23U , 4J246CA27 , 4J246CA27U , 4J246FA081 , 4J246GA01 , 4J246GC12 , 4J246GC23 , 4J246GC46 , 4J246GC47 , 4J246GC53 , 4J246HA15

引用特許：

出願人引用 (5件)

薄膜トランジスタ及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-067858 出願人：NEC液晶テクノロジー株式会社
アクティブマトリクス基板およびそれを備えた液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-046485 出願人：シャープ株式会社
薄膜トランジスタ及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-228683 出願人：シャープ株式会社

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