特許
J-GLOBAL ID：201003050296806688

基板支持装置及び基板支持方法

発明者：
中野 征二

中野 征二 について

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松下 道明

松下 道明 について

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飯田 成昭

飯田 成昭 について

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榎木田 卓

榎木田 卓 について

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森川 勝洋

森川 勝洋 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-088310
公開番号（公開出願番号）：特開2010-239088
出願日： 2009年03月31日
公開日（公表日）： 2010年10月21日
要約：
【課題】基板を介した薬品による腐食によって基板を正常に支持できなくなることを防ぐことができる基板支持装置を提供すること。【解決手段】基板の裏面を支持する裏面支持部を備えた支持部材と、この支持部材に設けられ、前記裏面支持部に支持された基板の側面を囲み、基板の位置を規制する位置規制部と、前記裏面支持部及び前記位置規制部のうち少なくとも一方は、基材と、この基材を被覆する第1の膜と、その第1の膜上に積層された第2の膜とを含む、化学的侵食を防ぐための保護膜と、からなるように基板支持装置を構成する。成膜工程において各膜に貫通欠陥が発生しても、第1の膜、第2の膜の欠陥が重ならないと、前記保護膜に被覆された基材が露出しないので、その基材の化学的侵食を防ぐことができる。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板の裏面を支持する裏面支持部を備えた支持部材と、 この支持部材に設けられ、前記裏面支持部に支持された基板の側面を囲み、基板の位置を規制する位置規制部と、 前記裏面支持部及び前記位置規制部のうち少なくとも一方は、基材と、この基材を被覆する第1の膜と、その第1の膜上に積層された第2の膜とを含む、化学的浸食を防ぐための保護膜と、からなることを特徴とする基板支持装置。
IPC (2件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/30 503C ,  H01L21/30 502J
Fターム (16件)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031GA05 ,  5F031GA06 ,  5F031GA32 ,  5F031GA37 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031PA30 ,  5F046CC08 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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