特許

J-GLOBAL ID：201003052019094673

インプリント型、インプリント装置、インプリント型の製造方法、及び構造体の製造方法

発明者： 塩澤 一史 ,  岡田 直忠
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-191903
公開番号（公開出願番号）：特開2010-030057
出願日： 2008年07月25日
公開日（公表日）： 2010年02月12日
要約：

【課題】本発明は、転写不良を抑制することができ、型寿命の長いインプリント型、インプリント装置、インプリント型の製造方法、及び構造体の製造方法を提供する。【解決手段】金属及び無機材料の少なくともいずれかを含む基部と、前記基部の第1の主面上に設けられ、金属及び無機材料の少なくともいずれかを含むパターン部と、前記基部の前記第1の主面とは反対の第2の主面上に設けられ、有機材料を含む緩衝部と、を備え、前記基部と、前記緩衝部と、が撓むことで被転写層が設けられた基板の主面の形状に前記パターン部が倣うこと、を特徴とするインプリント型が提供される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

金属及び無機材料の少なくともいずれかを含む基部と、 前記基部の第1の主面上に設けられ、金属及び無機材料の少なくともいずれかを含むパターン部と、 前記基部の前記第1の主面とは反対の第2の主面上に設けられ、有機材料を含む緩衝部と、 を備え、 前記基部と、前記緩衝部と、が撓むことで被転写層が設けられた基板の主面の形状に前記パターン部が倣うこと、を特徴とするインプリント型。

IPC (4件)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  B29C 33/38

FI (4件)：

B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501 ,  B29C33/38

Fターム (27件)：

2H097AA20 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ08 ,  4F202AM32 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD01 ,  4F202CD23 ,  4F202CD30 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ05 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• UVインプリンティングのためのコンプライアントなハード・テンプレート
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-510799   出願人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
• ナノプリント用スタンパ、及び微細構造転写方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-078460   出願人：株式会社日立製作所
• スタンパ及び転写装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-093091   出願人：株式会社日立製作所