特許
J-GLOBAL ID：201003052362202996
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、および酸発生剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-232681
公開番号（公開出願番号）：特開2010-111660
出願日： 2009年10月06日
公開日（公表日）： 2010年05月20日
要約：
【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】一般式(b1-14)で表される化合物;かかる化合物からなる酸発生剤;酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、該酸発生剤成分(B)はかかる化合物からなる酸発生剤(B1)を含むレジスト組成物。式中、R7”〜R9”はそれぞれ独立にアリール基又はアルキル基を表し;R7”〜R9”の内いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく;R7”〜R9”の内少なくとも1つは、水素原子の一部または全部がアルコキシカルボニルアルキルオキシ基で置換された置換アリール基であり;X-はアニオンである。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-14)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
C07C 381/12
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
C07C381/12
, G03F7/004 503A
, G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H125AF18P
, 2H125AF22P
, 2H125AF38P
, 2H125AH19
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AL12
, 2H125AN02P
, 2H125AN21P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN54P
, 2H125AN63P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB76
, 4H006AB92
, 4H006TN30
, 4H006TN60
