特許
J-GLOBAL ID：201003054819538394

パターン形成方法

発明者：
富田 宏朗

富田 宏朗 について

, 
岸 寛之

岸 寛之 について


出願人/特許権者：
旭化成イーマテリアルズ株式会社

旭化成イーマテリアルズ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-277214
公開番号（公開出願番号）：特開2010-105210
出願日： 2008年10月28日
公開日（公表日）： 2010年05月13日
要約：
【課題】感光性樹脂層の厚みが薄い場合であっても、連続的且つ高速で、サブミクロンパターンの光(ナノ)インプリントをきわめて容易に行うことができる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】温度35〜130°Cに設定された加熱体を用いて、モールド5と感光性樹脂層2とを押し付けるプレス工程、感光性樹脂層を露光により硬化させる露光工程、およびモールドを外す離脱工程を含むインプリントプロセスによりパターンを形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
温度35〜130°Cに設定された加熱体を用いて、モールドと感光性樹脂層とを押し付けるプレス工程、感光性樹脂層を露光により硬化させる露光工程、およびモールドを外す離脱工程を含むインプリントプロセスによりパターンを形成する方法。
IPC (2件)：
B29C 59/02 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D
Fターム (8件)：
4F209AA43 ,  4F209AA44 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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