特許
J-GLOBAL ID：200903079522370682

パターン形成方法、パターン形成装置およびパターン形成ずみフィルム

発明者：
松井 真二

松井 真二 について

, 
赤田 浩三

赤田 浩三 について


出願人/特許権者：
明昌機工株式会社

明昌機工株式会社 について

, 
兵庫県

兵庫県 について


代理人 (1件)： 細見 吉生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-258237
公開番号（公開出願番号）：特開2007-073696
出願日： 2005年09月06日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】 転写の前後の取扱いが容易であるうえ、広い面積であっても膜の均一性にすぐれる、といった利点のあるパターン形成方法等を提供する。【解決手段】 感光性ドライフィルムに対して、モールドの押し付けと光照射とを含む光ナノインプリントを行う。感光性ドライフィルムにモールドを押し付け、同フィルムよりモールドを引き離す前、またはモールドを引き離した直後に同フィルムに光照射を行うとよい。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
感光性ドライフィルムに対して、モールドの押し付けと光照射とを含む光ナノインプリントを行うことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  B29C 59/02
FI (3件)：
H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501 ,  B29C59/02 B
Fターム (18件)：
2H097CA12 ,  2H097FA02 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  2H097LA17 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  5F046BA10 ,  5F046CA02
引用特許：
審査官引用 (12件)
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