特許
J-GLOBAL ID:201003055333948643
プラズマ支援式の表面処理のための方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, 杉本 博司
, 高橋 佳大
, 星 公弘
, 二宮 浩康
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-519424
公開番号(公開出願番号):特表2010-536131
出願日: 2008年07月26日
公開日(公表日): 2010年11月25日
要約:
本発明は、表面を、表面障壁放電により形成される大気圧プラズマを用いて乾式洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去(細菌除去、消毒、滅菌)するための方法及び一連の装置に関する。本発明は、表面を、表面障壁放電により流動状の所定のガス雰囲気内に形成される大気圧プラズマを用いて乾式洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去するために用いられ、誘電体又は強誘電体で覆われた高電圧電極、接地された導電性の接触電極、高電圧供給部及びガス供給部、並びにガス出口開口部を備えたガスノズルを含んでおり、この場合にガスノズルは、接地された接触電極のすぐ近くに配置され、又は、ガスノズルは、接地された接触電極内に組み込まれ、又は、ガスノズルはそれ自体、接地された接触電極として作動するようになっており、かつガス出口開口部は、流出するガス流を接地された接触電極に向けるように構成されている。方法は、ガスノズルを有する接触電極と処理すべき材料とを互いに相対的に運動させることを特徴としている。
請求項(抜粋):
表面(3)の乾式の洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去のための装置であって、表面障壁放電により流動状の所定のガス雰囲気内に形成される大気圧プラズマを用いており、誘電体又は強誘電体(4)で覆われた高電圧電極(5)、接地された導電性の接触電極(2)、高電圧供給部(7)及びガス供給部(8)、並びにガス出口開口部(12)を備えたガスノズル(1)を含んでいる形式のものにおいて、
a) 前記ガスノズル(1)は、前記接地された接触電極(2)のすぐ近くに配置されており、又は、
b) 前記ガスノズル(1)は、前記接地された接触電極(2)内に組み込まれており、又は、
c) 前記ガスノズル(1)自体が、前記接地された接触電極(2)として作動するようになっており、かつ前記ガス出口開口部(12)は、流出するガス流を前記接地された接触電極(2)に向けるように構成されていることを特徴とする、プラズマ支援式の表面処理のための装置。
IPC (6件):
H05H 1/24
, C23C 16/513
, H01L 21/31
, C23G 5/00
, B01J 19/08
, B08B 7/00
FI (6件):
H05H1/24
, C23C16/513
, H01L21/31 C
, C23G5/00
, B01J19/08 E
, B08B7/00
Fターム (46件):
3B116AA01
, 3B116AA08
, 3B116AA12
, 3B116AA22
, 3B116AA46
, 3B116AB52
, 3B116BA02
, 3B116BB22
, 3B116BB89
, 3B116BB90
, 4G075AA30
, 4G075AA37
, 4G075BC10
, 4G075CA47
, 4G075CA63
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EC21
, 4G075ED04
, 4G075ED13
, 4G075FA02
, 4G075FB02
, 4G075FB13
, 4G075FC15
, 4K030AA06
, 4K030AA10
, 4K030BA44
, 4K030EA05
, 4K030FA03
, 4K030JA09
, 4K030KA14
, 4K030KA15
, 4K030KA17
, 4K030KA30
, 4K030KA47
, 4K053QA04
, 4K053QA07
, 4K053RA03
, 4K053SA01
, 4K053SA11
, 4K053XA50
, 5F045AA08
, 5F045AE29
, 5F045DP03
, 5F045EF01
, 5F045EH20
引用特許:
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