特許
J-GLOBAL ID：201003056423338735

多層構造計測方法および多層構造計測装置

発明者：
末平 信人

末平 信人 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 世良 和信 ,  川口 嘉之 ,  和久田 純一 ,  坂井 浩一郎 ,  中村 剛 ,  丹羽 武司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-179311
公開番号（公開出願番号）：特開2010-019636
出願日： 2008年07月09日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：
【課題】従来、分光器を用いて断層を計測する手法においては、離散フーリエ変換を用いていたため、断層の値は離散的な値しか表現できなかった。そのため、断層の計測精度の向上が求められていた。【解決手段】本発明に係る断層像計測方法は、波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第1の工程と、前記光学距離に対応した情報から、各層の情報を分離して抽出する第2の工程と、各層の情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第3の工程と、第3の工程の結果から干渉波数を求める第4の工程と、干渉波数と各層の光学距離とから干渉次数を算出する第5の工程と、干渉次数が整数であることを利用して各層の光学距離を計算する第6の工程と、を含む。【選択図】図3A
請求項（抜粋）：
光源と、 前記光源からの光を多層構造の観察対象物に導くとともに、該観察対象物からの戻り光を検出位置に導く光学系と、 前記検出位置に配置され、入射する光の波数スペクトルを検出する分光器と、 検出された波数スペクトルから、前記観察対象物の多層構造を計測する解析手段と、 を備える装置における多層構造計測方法であって、 前記波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第1の工程と、 前記光学距離に対応した情報から、各層の光学距離に対応した情報を分離して抽出する第2の工程と、 前記各層の光学距離に対応した情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第3の工程と、 第3の工程の結果から、干渉が発生している波数または波長を求める第4の工程と、 第4の工程で求めた波数または波長と、各層の光学距離とから、干渉次数を算出する第5の工程と、 第5の工程で求めた干渉次数を最も近い整数に近似し、近似した干渉次数と、干渉が発生している波数または波長とから、各層の光学距離を計算する第6の工程と、 を含むことを特徴とする多層構造計測方法。
IPC (3件)：
G01B 11/24 ,  G01B 11/06 ,  G01B 9/02
FI (3件)：
G01B11/24 D ,  G01B11/06 G ,  G01B9/02
Fターム (41件)：
2F064AA00 ,  2F064EE04 ,  2F064EE10 ,  2F064FF07 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG44 ,  2F064GG49 ,  2F064HH01 ,  2F064HH02 ,  2F064HH05 ,  2F064HH07 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ15 ,  2F065AA30 ,  2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065BB17 ,  2F065CC16 ,  2F065CC17 ,  2F065CC31 ,  2F065FF52 ,  2F065GG02 ,  2F065GG24 ,  2F065GG25 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL04 ,  2F065LL42 ,  2F065LL47 ,  2F065LL62 ,  2F065LL67 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065MM28 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS13 ,  2F065UU07
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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