特許
J-GLOBAL ID:201003058667220127

偏光素子及びその製造方法、並びに液晶プロジェクタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司 ,  野田 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-233329
公開番号(公開出願番号):特開2010-066571
出願日: 2008年09月11日
公開日(公表日): 2010年03月25日
要約:
【課題】使用帯域において所望の偏光特性を得ることができるとともに外力に強く汚れにくいワイヤグリッド構造をもつ偏光素子及びその製造方法、並びに該偏光素子を用いた液晶プロジェクタを提供する。【解決手段】使用帯域の光に透明な基板11と、基板11上で直線状に延びた凸状反射膜12aが前記使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで配列され、凸状反射膜12a間に基板11よりも屈折率の低い無機材料が充填されてなる充填部12bが形成された反射層12と、凸状反射膜12a上に形成された誘電体層13と、誘電体層13上に無機微粒子が直線状に配列されてなる無機微粒子層14と、を備える。【選択図】図2
請求項(抜粋):
使用帯域の光に透明な基板と、 前記基板上で直線状に延びた凸状反射膜が前記使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで配列され、前記凸状反射膜間に前記基板よりも屈折率の低い無機材料が充填されてなる反射層と、 前記凸状反射膜上に形成された誘電体層と、 前記誘電体層上に無機微粒子が直線状に配列されてなる無機微粒子層と、を備える偏光素子。
IPC (3件):
G02B 5/30 ,  G03B 21/14 ,  G02F 1/133
FI (3件):
G02B5/30 ,  G03B21/14 Z ,  G02F1/1335 510
Fターム (25件):
2H149AA17 ,  2H149BA04 ,  2H149BA23 ,  2H149BB28 ,  2H149FA41W ,  2H149FA42Z ,  2H149FA43Z ,  2H149FA44Z ,  2H149FD47 ,  2H191FA28X ,  2H191FA28Z ,  2H191FB12 ,  2H191FB23 ,  2H191FC10 ,  2H191FC36 ,  2H191FD04 ,  2H191FD07 ,  2H191LA02 ,  2H191MA11 ,  2K103AA05 ,  2K103AB10 ,  2K103BC14 ,  2K103CA26 ,  2K103CA75 ,  2K103CA76
引用特許:
出願人引用 (6件)
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