処理装置の管理システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人青莪
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-261369
公開番号（公開出願番号）：特開2010-093047
出願日： 2008年10月08日
公開日（公表日）： 2010年04月22日
要約：

【課題】半導体製造工程で用いられる複数の処理装置を統括管理するための管理システムを、設定値パターンの入力を簡素化しつつデータ量を少なくできるようにして使い勝手のよいものとする。【解決手段】各処理装置1に設けたセンサ6を介して取得した管理情報の取得波形データAWと、取得しようする管理情報に対応して予め記憶された設定波形データSWとを比較し、所定の閾値を超えて設定波形データから取得波形データが逸脱すると、異常検知と判断する。設定波形データの全てが初期状態から定常状態に向う上昇波形データuwと定常状態たる安定波形データnwとに区分され、この区分された上昇波形データ及び安定波形データ毎に、取得波形データとの比較による異常検知の判断を行うことで、レシピに関係なく設定波形データを集約管理する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

所定の処理を行う複数の処理装置にて行われる各処理を統括管理するための処理装置の管理システムであって、各処理装置に設けたセンサを介して取得した管理情報の取得波形データと、取得しようする管理情報に対応して予め記憶された設定波形データとを比較し、所定の閾値を超えて設定波形データから取得波形データが逸脱すると、異常検知と判断するようにしたものにおいて、前記設定波形データの全てが初期状態から定常状態に向う上昇波形データと定常状態たる安定波形データとに区分され、この区分された上昇波形データ及び安定波形データ毎に、取得波形データとの比較による異常検知の判断を行うことを特徴とする処理装置の管理システム。

IPC (4件)：

H01L 21/02 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , G05B 19/418

FI (4件)：

H01L21/02 Z , H01L21/205 , H01L21/31 B , G05B19/418 Z

Fターム (7件)：

3C100AA56 , 3C100BB27 , 3C100EE06 , 5F045AA03 , 5F045BB08 , 5F045GB05 , 5F045GB16

引用特許：

出願人引用 (4件)

半導体製造装置の管理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-068903 出願人：シャープ株式会社
異常検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-269060 出願人：株式会社日立国際電気
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-084513 出願人：株式会社日立国際電気

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審査官引用 (3件)

異常検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-269060 出願人：株式会社日立国際電気
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-084513 出願人：株式会社日立国際電気
制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-266123 出願人：三菱電機株式会社

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