フロートガラス研磨システム

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：龍華国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-048413
公開番号（公開出願番号）：特開2010-208016
出願日： 2010年03月04日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：

【課題】研磨パッドのメンテナンス及び交換作業が容易にできるフロートガラス研磨システムを提供する。【解決手段】フロートガラス研磨システム100に関し、位置が固定された加工対象であるフロートガラスGを回転させる下部ユニット110、フロートガラスGに接触してフロートガラスGの回転に伴って被動回転される上部ユニット120、及び前記上部ユニット120を水平または垂直方向に移動させるための移動ユニット130を備えるフロートガラス研磨システム100であって、上部ユニット120は、移動ユニット130のスピンドル124に設けられたプラッター125と、フロートガラスGに接触する研磨部が装着され、プラッター125に対して分離可能に設けられた分離プラッター127と、真空圧着によって分離プラッター127をプラッター125に対して位置固定するための真空チャック180とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

位置が固定された加工対象であるフロートガラスを回転させる下部ユニット、前記フロートガラスに接触して前記フロートガラスの回転に伴って被動回転される上部ユニット、及び前記上部ユニットを水平または垂直方向に移動させるための移動ユニットを備えるフロートガラス研磨システムであって、前記上部ユニットは、前記移動ユニットのスピンドルに設けられたプラッターと、前記フロートガラスに接触可能な研磨パッドが装着され、前記プラッターに対して分離可能に設けられた分離プラッターと、前記プラッターに対して前記分離プラッターの位置を真空圧着によって固定するための真空チャックと、を備えることを特徴とするフロートガラス研磨システム。

IPC (3件)：

B24B 37/04 , B24B 37/00 , B24B 7/24

FI (4件)：

B24B37/04 Y , B24B37/00 K , B24B37/00 B , B24B7/24 E

Fターム (13件)：

3C043BB07 , 3C043CC07 , 3C043CC13 , 3C043DD02 , 3C043EE04 , 3C058AA07 , 3C058AA12 , 3C058AA15 , 3C058AC04 , 3C058CA06 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C058CB04

引用特許：

審査官引用 (6件)

研磨装置、研磨方法、この研磨方法を用いた半導体デバイスの製造方法及びこの半導体デバイスの製造方法により製造された半導体デバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-351438 出願人：株式会社ニコン
化学機械研磨方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-354200 出願人：キヤノン株式会社
研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-200771 出願人：株式会社ニコン

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