特許
J-GLOBAL ID：201003063196263509

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
竹下 優

竹下 優 について

, 
熊田 信次

熊田 信次 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-260865
公開番号（公開出願番号）：特開2010-091731
出願日： 2008年10月07日
公開日（公表日）： 2010年04月22日
要約：
【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、液浸露光用として好適なレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素化合物成分(F)を有機溶剤(S)に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、前記有機溶剤(S)は、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤(S1)と、沸点150°C未満のアルコール系有機溶剤(S2)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および含フッ素化合物成分(F)を有機溶剤(S)に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、 前記有機溶剤(S)は、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤(S1)と、沸点150°C未満のアルコール系有機溶剤(S2)とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/18 ,  C08F 220/28 ,  C08F 220/22
FI (7件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/22
Fターム (47件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11S ,  4J100BA22R ,  4J100BB18P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA37
引用特許：
審査官引用 (5件)
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