特許
J-GLOBAL ID：201003067769549041
構造因子テンソル要素決定法及びそのためのX線回折装置利用法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 平山 晃二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-027415
公開番号（公開出願番号）：特開2010-117365
出願日： 2010年02月10日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
【課題】物質の構造因子テンソルの決定に必要なX線領域の偏光解析の方法は既に提案されているが、構造因子テンソルの迅速決定および測定感度向上のために、偏光解析結晶を用いる場合には、種々の問題を解決しなければならない。【解決手段】試料からの散乱X線強度の入射偏光依存性を測定・解析することで、偏光解析結晶を使用することなく構造因子テンソルを決定する方法。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
試料からの散乱X線強度の入射偏光依存性を測定・解析することで、偏光解析結晶を使用することなく構造因子テンソルを決定することを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
2G001AA01
, 2G001BA14
, 2G001BA18
, 2G001BA28
, 2G001CA01
, 2G001GA01
, 2G001GA07
, 2G001GA13
, 2G001KA12
, 2G001LA02
, 2G001LA20
, 2G001NA15
, 2G001NA17
, 2G001RA03
