特許

J-GLOBAL ID：201003068660954619

ポジトロン断層撮影法および該方法に用いるポジトロン放出化合物

発明者： 橋本 謙二 ,  豊原 潤
出願人/特許権者： 国立大学法人 千葉大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-199850
公開番号（公開出願番号）：特開2010-037232
出願日： 2008年08月01日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：

【課題】脳疾患の診断に用いポジトロン断層撮影法と、該方法に用いるポジトロン放出化合物の提供。【解決手段】ポジトロン放出源としての化合物(I)又は(II)の使用。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ポジトロン放出源の分布と集積度を測定するポジトロン断層撮影法におけるポジトロン放出源として、化合物(I)を用いることを特徴とするポジトロン断層撮影法。 化合物(I)

IPC (2件)：

C07D 487/04 ,  A61K 51/00

FI (3件)：

C07D487/04 137 ,  C07D487/04 ,  A61K49/02 C

Fターム (14件)：

4C050AA01 ,  4C050BB04 ,  4C050CC04 ,  4C050EE02 ,  4C050FF01 ,  4C050GG01 ,  4C050HH02 ,  4C050HH04 ,  4C085HH03 ,  4C085JJ02 ,  4C085KA29 ,  4C085KB55 ,  4C085KB56 ,  4C085LL13

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ポジトロン断層撮影装置用検出器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-058716   出願人：浜松ホトニクス株式会社
• ポジトロン断層撮影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-192560   出願人：科学技術庁金属材料技術研究所長
• 1,4-ジアザビシクロ[3.2.2]ノナン-4-カルボキシレートおよびカルボキサミド誘導体、治療におけるその製造ならびに使用
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-608013   出願人：サノフィ-サンテラボ

審査官引用 (1件)

• ポジトロン断層撮影法および該方法に用いるポジトロン放出化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-041545   出願人：株式会社ナード研究所, 国立大学法人千葉大学

引用文献：

審査官引用 (2件)

• CNS Neuroscience & Therapeutics, 2008, Vol.14, No.1, p.65-82
• British Journal of Pharmacology, 2008, Vol.153, p.1054-1061