特許
J-GLOBAL ID：201003068774440372

エッチングレジスト用インクおよびそれを用いたレジストパターンの形成方法

発明者：
義原 直

義原 直 について

, 
笠井 正紀

笠井 正紀 について

, 
五十住 宏

五十住 宏 について


出願人/特許権者：
DIC株式会社

DIC株式会社 について


代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-292560
公開番号（公開出願番号）：特開2010-116525
出願日： 2008年11月14日
公開日（公表日）： 2010年05月27日
要約：
【課題】ファインパターンの形成が可能なエッチングレジスト用インクおよびそれを用いたエッチングレジストパターンの形成方法を提供する。【解決手段】平均粒子径が100nm以下である体質成分と、酸価が200以上である第1の樹脂と、Tgが25°C以下である第2の樹脂と、離型剤と、表面エネルギー調整剤と、溶剤とを含有することを特徴とするエッチングレジスト用インクを用いて、凸版反転印刷法によりエッチングレジストパターンを形成する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
平均粒子径が100nm以下である体質成分と、酸価が200以上である第1の樹脂と、Tgが25°C以下である第2の樹脂と、離型剤と、表面エネルギー調整剤と、溶剤とを含有することを特徴とする凸版反転印刷法によるエッチングレジスト用インク。
IPC (2件)：
C09D 11/02 ,  H05K 3/06
FI (2件)：
C09D11/02 ,  H05K3/06 H
Fターム (11件)：
4J039AB08 ,  4J039AD09 ,  4J039AD14 ,  4J039BE01 ,  4J039BE12 ,  4J039BE28 ,  4J039GA01 ,  4J039GA17 ,  5E339BE13 ,  5E339CD01 ,  5E339CE18
引用特許：
出願人引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM