メソポーラスシリカ多孔質膜の形成方法、その多孔質膜、反射防止膜及び光学素子

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：高石橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-308746
公開番号（公開出願番号）：特開2010-132485
出願日： 2008年12月03日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：

【課題】界面活性剤を比較的低温で除去しながら、低い屈折率を有し、反射防止性に優れたメソポーラスシリカ多孔質膜を形成する方法、その多孔質膜、反射防止膜及び光学素子を提供する。【解決手段】光学基材1又はその上に設けられた緻密膜の表面に、メソポーラスシリカナノ粒子が集合してなるメソポーラスシリカ多孔質膜2を形成する方法であって、(1) 触媒、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び溶媒の存在下でアルコキシシランを加水分解・重縮合し、これらの界面活性剤及びメソポーラスシリカナノ粒子からなる複合体を調製し、(2) 上記複合体を含む溶液を上記基材又は緻密膜の表面に塗布し、(3) 乾燥して上記溶媒を除去し、(4) 酸素含有ガス雰囲気下120〜250°Cの温度で焼成するか、酸素含有ガスを用いてプラズマ処理することにより、上記両界面活性剤を除去する方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光学基材又はその上に設けられた緻密膜の表面に、メソポーラスシリカナノ粒子が集合してなるメソポーラスシリカ多孔質膜を形成する方法であって、(1) アルコキシシラン、触媒、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び溶媒を含む混合溶液をエージングして前記アルコキシシランを加水分解・重縮合させて、前記カチオン性界面活性剤、前記非イオン性界面活性剤及びメソポーラスシリカナノ粒子からなる複合体を調製し、(2) 前記複合体を含む溶液を前記基材又は緻密膜の表面に塗布し、(3) 乾燥して前記溶媒を除去し、(4) 酸素含有ガス雰囲気下、120〜250°Cの温度で焼成して前記カチオン性界面活性剤及び前記非イオン性界面活性剤を除去することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C01B 37/02 , G02B 1/11 , B32B 9/00 , B05D 7/24

FI (4件)：

C01B37/02 , G02B1/10 A , B32B9/00 A , B05D7/24 302A

Fターム (58件)：

2K009AA02 , 2K009AA12 , 2K009CC09 , 2K009CC42 , 2K009DD02 , 2K009DD04 , 2K009DD12 , 4D075BB24Z , 4D075BB29Z , 4D075BB56Z , 4D075BB93Z , 4D075CB03 , 4D075DC24 , 4D075EB43 , 4D075EC03 , 4D075EC25 , 4D075EC35 , 4D075EC37 , 4D075EC53 , 4D075EC54 , 4F100AA17B , 4F100AA20C , 4F100AH06C , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100CA18C , 4F100DE01C , 4F100DJ00C , 4F100EH46C , 4F100EJ42C , 4F100EJ48C , 4F100EJ61C , 4F100JN00A , 4F100JN01 , 4F100JN06 , 4F100JN18 , 4F100YY00C , 4G073BA81 , 4G073BB07 , 4G073BB48 , 4G073BB58 , 4G073BC02 , 4G073BD18 , 4G073FA18 , 4G073FB42 , 4G073FC18 , 4G073FC19 , 4G073FD13 , 4G073FD21 , 4G073FD24 , 4G073FD30 , 4G073GA11 , 4G073GA13 , 4G073UB26 , 4G073UB60

引用特許：

出願人引用 (2件)

多孔質シリカの製造方法、多孔質シリカおよびその用途
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-349978 出願人：三井化学株式会社
多孔質膜の前駆体組成物及びその調製方法、多孔質膜及びその作製方法、並びに半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-154846 出願人：株式会社アルバック, 三井化学株式会社

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