特許
J-GLOBAL ID：201003070274960242

Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法

発明者：
福岡 淳

福岡 淳 について

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上野 友典

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高島 洋

高島 洋 について

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上野 英

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藤本 光晴

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出願人/特許権者：
日立金属株式会社

日立金属株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-137623
公開番号（公開出願番号）：特開2010-018884
出願日： 2009年06月08日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：
【課題】 強い漏洩磁束が得られる透磁率が低く使用効率が高いFe-Co系合金ターゲット材およびその製造方法を提供する【解決手段】 原子比における組成式が(FeX-Co100-X)100-YMY、20≦X≦80、4≦Y≦25で表され、前記組成式のM元素がNbおよび/あるいはTaであるスパッタリングターゲット材であって、該スパッタリングターゲット材のミクロ組織がFeとCoを主体とするBCC相および/またはFCC相とM元素を含有する金属間化合物相とでなる金属組織を有し、ミクロ組織においてM元素を含有する金属間化合物相に描ける最大内接円の直径が10μm以下であるFe-Co系合金スパッタリングターゲット材である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原子比における組成式が(FeX-Co100-X)100-YMY、20≦X≦80、4≦Y≦25で表され、前記組成式のM元素がNbおよび/あるいはTaであるスパッタリングターゲット材であって、該スパッタリングターゲット材のミクロ組織がFeとCoを主体とするBCC相および/またはFCC相とM元素を含有する金属間化合物相とでなる金属組織を有し、ミクロ組織においてM元素を含有する金属間化合物相に描ける最大内接円の直径が10μm以下であることを特徴とするFe-Co系合金スパッタリングターゲット材。
IPC (7件)：
C22C 38/00 ,  C23C 14/34 ,  B22F 1/00 ,  B22F 3/15 ,  C22C 19/07 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/851
FI (9件)：
C22C38/00 304 ,  C23C14/34 A ,  B22F1/00 T ,  B22F1/00 M ,  B22F3/15 M ,  C22C19/07 C ,  C22C38/00 303S ,  G11B5/738 ,  G11B5/851
Fターム (31件)：
4K018AA10 ,  4K018AA25 ,  4K018BA04 ,  4K018BA16 ,  4K018BB04 ,  4K018EA01 ,  4K018EA13 ,  4K018EA21 ,  4K018EA31 ,  4K018FA06 ,  4K018HA08 ,  4K018KA29 ,  4K018KA43 ,  4K018KA61 ,  4K029BA24 ,  4K029BA26 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029DC04 ,  4K029DC09 ,  4K029DC39 ,  5D006CA03 ,  5D006CA04 ,  5D006DA08 ,  5D006EA03 ,  5D112AA04 ,  5D112BD03 ,  5D112BD08 ,  5D112FB02 ,  5D112FB04
引用特許：
審査官引用 (3件)

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