特許
J-GLOBAL ID：201003074221710207

光学異方膜の製造方法、ラビング処理方法、及び画像表示装置

発明者：
井上 徹雄

井上 徹雄 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (3件)： 大中 実 ,  大内 信雄 ,  鈴木 活人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-100621
公開番号（公開出願番号）：特開2010-250146
出願日： 2009年04月17日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：
【課題】 本発明は、ラビング処理によって基材表面に十分な配向規制力を付与でき、前記基材表面の配向規制力に従って良好に配向したリオトロピック液晶性化合物を有する光学異方膜の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明光学異方膜の製造方法は、基材表面に加熱処理を行う加熱工程と、前記加熱処理を行った基材表面にラビング処理を行うラビング工程と、前記ラビング処理を行った基材表面にリオトロピック液晶性化合物を含む塗工液を塗工する塗工工程と、を有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
リオトロピック液晶性化合物を含む光学異方膜を基材上に形成する光学異方膜の製造方法であって、 基材表面に加熱処理を行う加熱工程、 前記加熱処理を行った基材表面にラビング処理を行うラビング工程、 前記ラビング処理を行った基材表面にリオトロピック液晶性化合物を含む塗工液を塗工する塗工工程、 を有する光学異方膜の製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/30 ,  G02F 1/133
FI (3件)：
G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1335 510
Fターム (14件)：
2H149AA01 ,  2H149AB01 ,  2H149DB02 ,  2H149DB04 ,  2H149FA21Y ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Y ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Y ,  2H191FA30Z ,  2H191FB05 ,  2H191FC32 ,  2H191LA13
引用特許：
審査官引用 (9件)
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