特許

J-GLOBAL ID：201003076449443120

多層複屈折バターン作製材料、及び多層複屈折パターンを有する物品の製造方法

発明者： 兼岩 秀樹 ,  網盛 一郎
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 飯田 敏三 ,  宮前 尚祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-093231
公開番号（公開出願番号）：特開2010-243850
出願日： 2009年04月07日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：

【課題】効率良く層ごとに異なる複屈折パターンを形成することができる、光学異方性層を複数層有する多層複屈折パターン作製材料を提供する。さらに本発明は、偽造防止性と意匠性に優れた、層ごとに異なる複屈折パターンを有する光学異方性層を複数有する多層複屈折パターンを有する物品を、より少ない工程数で製造する方法を提供する。【解決手段】反応性基を有する高分子化合物を含んでなる、互いに異なる複屈折パターン形成を可能な光学異方性層を少なくとも2層(12F)(12S)を有する多層複屈折パターン作製材料。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

反応性基を有する高分子化合物を含んでなる、互いに異なる複屈折パターン形成を可能な光学異方性層を少なくとも2層有することを特徴とする多層複屈折パターン作製材料。

IPC (3件)：

G02B 5/30 ,  B32B 7/02 ,  B42D 15/10

FI (4件)：

G02B5/30 ,  B32B7/02 103 ,  B42D15/10 501P ,  B42D15/10 531B

Fターム (37件)：

2C005HA02 ,  2C005HB10 ,  2C005HB20 ,  2C005JA12 ,  2C005KA01 ,  2H149AA28 ,  2H149AB00 ,  2H149AB26 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB15 ,  2H149DB16 ,  2H149DB28 ,  2H149EA06 ,  2H149EA22 ,  2H149FA03Z ,  2H149FA33Y ,  2H149FA51Y ,  2H149FA58Y ,  2H149FA66 ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK21 ,  4F100AK42 ,  4F100AT00D ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100CA30A ,  4F100CA30B ,  4F100CB00C ,  4F100EC04 ,  4F100EJ37 ,  4F100EJ52 ,  4F100JA11A ,  4F100JA11B ,  4F100JN18A ,  4F100JN18B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 複屈折パターンを有する物品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-299181   出願人：富士フイルム株式会社
• 光重合性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-020522   出願人：徳山石油化学株式会社
• 積層反射体、認証カード、バーコードラベル、認証システム、及び、認証領域形成システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-183587   出願人：日東電工株式会社, 株式会社ニトムズ, 日本発条株式会社
• 画像形成材料および画像形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-009041   出願人：富士写真フイルム株式会社