特許
J-GLOBAL ID：201003078425924520

荷電粒子ビーム照射システムおよび荷電粒子ビーム出射方法

発明者：
西内 秀晶

西内 秀晶 について

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齋藤 一義

齋藤 一義 について

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田所 昌宏

田所 昌宏 について

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秋山 浩

秋山 浩 について

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平本 和夫

平本 和夫 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-173451
公開番号（公開出願番号）：特開2010-011962
出願日： 2008年07月02日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：
【課題】シンクロトロン内の蓄積ビームを効率良く出射・利用でき、かつ照射線量の平坦度を担保することができる荷電粒子ビーム照射システムおよび荷電粒子ビーム出射方法を提供する。【解決手段】シンクロトロン13の運転サイクルにおける出射制御期間の直前にシンクロトロン内を13周回しているイオンビームの蓄積ビーム電荷量Qm0を測定する計測手段15と、イオンビームの蓄積量の測定結果Qm0に基づいてイオンビームの全量が予め設定した出射制御時間Texの終了に合わせて出射し終わるようにイオンビームの出射を制御するビーム出射制御手段20,24,28,29とを設ける。照射装置がRMW32を備える場合、蓄積ビーム電荷量の基準値に対する測定値の割合Qm0/Qs0と、出射制御時間Texに対する実際のビーム出射時間の割合Tb/Taに応じて出射用高周波電圧の振幅値を制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
イオンビームを加速して出射するシンクロトロンと、前記シンクロトロンから導かれた前記イオンビームを照射する照射装置とを有する荷電粒子ビーム照射システムにおいて、 前記シンクロトロンの運転サイクルにおける出射制御期間の直前に前記シンクロトロン内を周回しているイオンビームの蓄積ビーム電荷量を測定する蓄積ビーム電荷量検出手段と、 前記シンクロトロンの出射制御期間の長さである出射制御時間が予め設定されており、前記イオンビームの蓄積量の測定結果に基づいて前記イオンビームの全量が前記予め設定した出射制御時間の終了に合わせて出射し終わるように前記イオンビームの出射を制御するビーム出射制御手段とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム照射システム。
IPC (6件)：
A61N 5/10 ,  G21K 5/04 ,  G21K 3/00 ,  G21K 1/093 ,  G21K 5/00 ,  H05H 13/04
FI (10件)：
A61N5/10 H ,  G21K5/04 A ,  G21K5/04 D ,  G21K3/00 W ,  G21K3/00 Y ,  G21K1/093 D ,  G21K5/00 A ,  H05H13/04 M ,  H05H13/04 N ,  H05H13/04 G
Fターム (18件)：
2G085AA13 ,  2G085BA02 ,  2G085BA13 ,  2G085CA05 ,  2G085CA21 ,  2G085CA22 ,  2G085CA24 ,  2G085CA26 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG02 ,  4C082AG11 ,  4C082AG35 ,  4C082AG53 ,  4C082AP13 ,  4C082AR02
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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