特許
J-GLOBAL ID：201003080183067966

成膜装置、基板処理装置、成膜方法及びこの成膜方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体

発明者：
本間 学

本間 学 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-227024
公開番号（公開出願番号）：特開2010-059495
出願日： 2008年09月04日
公開日（公表日）： 2010年03月18日
要約：
【課題】複数の反応ガスの混合を防止し、真空容器を反応ガスに対して耐食保護できる成膜装置を提供する。【解決手段】真空容器1内で第1及び第2の反応ガスを供給して薄膜を成膜する成膜装置において、回転テーブル2と、真空容器1を耐食保護するための保護天板4と、回転テーブル2の周縁から回転中心に向け設けられる第1の反応ガス供給部31及び第2の反応ガス供給部32と、その間に設けられる第1の分離ガス供給部41と、第1の反応ガス供給部31を含み第1の高さH1を有する第1の空間P1と、第2の反応ガス供給部32を含み第2の高さH2を有する第2の空間P2と、第1の分離ガス供給部41を含みH1及びH2より低く設けられる第3の空間Dと、真空容器1を耐食保護するために保護天板4と共に回転テーブル2、第1の空間P1、第2の空間P2及び第3の空間Dを囲繞する真空容器保護部49とを備える成膜装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空容器内で第1の反応ガス及び第2の反応ガスを含む少なくとも2種類の原料ガスを順番に供給しかつ前記少なくとも2種類の前記原料ガスを順番に供給する供給サイクルを実行することにより薄膜を成膜する成膜装置において、 前記真空容器内に回転可能に設けられ、基板を載置する基板載置部を備える回転テーブルと、 前記真空容器を前記第1の反応ガス及び前記第2の反応ガスに対して耐食保護するために、前記回転テーブルの上に対向して設けられる保護天板と、 前記第1の反応ガス及び前記第2の反応ガスを供給するために、前記回転テーブルの周縁の互いに異なる位置から回転中心に向かって各々設けられる第1の反応ガス供給部及び第2の反応ガス供給部と、 前記第1の反応ガスと前記第2の反応ガスとを分離する第1の分離ガスを供給するために、前記第1の反応ガス供給部と前記第2の反応ガス供給部との間の前記回転テーブルの周縁の位置から回転中心に向かって設けられる第1の分離ガス供給部と、 前記第1の反応ガス供給部を含む前記保護天板の下面であって、前記回転テーブルから第1の高さに設けられる第1の下面の領域と、 前記第1の下面の領域と前記回転テーブルとの間に形成される第1の空間と、 前記第2の反応ガス供給部を含む前記保護天板の下面であって、前記第1の下面の領域と離れた位置に前記回転テーブルから第2の高さに設けられる第2の下面の領域と、 前記第2の下面の領域と前記回転テーブルとの間に形成される第2の空間と、 前記第1の分離ガス供給部を含み前記回転テーブルの回転方向に沿って前記第1の分離ガス供給部の両側に位置する前記保護天板の下面であって、前記回転テーブルから前記第1の高さ及び前記第2の高さより低い第3の高さに設けられる第3の下面の領域と、 前記第3の下面の領域と前記回転テーブルとの間に形成され、前記第1の分離ガス供給部から供給された前記第1の分離ガスが前記第1の空間及び前記第2の空間に流れるための前記第3の高さを有し狭隘な第3の空間と、 前記真空容器を前記第1の反応ガス及び前記第2の反応ガスに対して耐食保護するために、前記保護天板と共に前記回転テーブル、前記第1の空間、前記第2の空間及び前記第3の空間を囲繞するように設けられる真空容器保護部と、 前記保護天板の下面であって、前記回転テーブルの回転中心の前記基板載置部側に前記第1の反応ガスと前記第2の反応ガスとを分離する第2の分離ガスを供給する第2の分離ガス供給部が設けられる中心部領域と、 前記第3の空間の両側に吐出される前記第1の分離ガス及び前記中心部領域から吐出される前記第2の分離ガスと共に前記第1の反応ガス及び前記第2の反応ガスを排気するための排気口と を備えることを特徴とする成膜装置。
IPC (5件)：
C23C 16/455 ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/768 ,  H01L 23/522
FI (5件)：
C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  H01L21/31 B ,  H01L21/90 K ,  H01L21/90 P
Fターム (30件)：
4K030AA06 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030GA06 ,  4K030KA12 ,  4K030KA46 ,  5F033RR04 ,  5F033RR06 ,  5F033SS02 ,  5F033SS03 ,  5F033SS11 ,  5F033XX00 ,  5F045AA04 ,  5F045AB32 ,  5F045AC07 ,  5F045AD07 ,  5F045AE23 ,  5F045DP14 ,  5F045DP27 ,  5F045EC05 ,  5F045EE19 ,  5F045EE20 ,  5F045EK07
引用特許：
出願人引用 (10件)
  • 米国特許公報7,153,542号
  • 成膜装置および成膜方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-000183   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 特許3144664号公報
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM