特許
J-GLOBAL ID:200903046525869798
枚葉式熱処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金坂 憲幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-207327
公開番号(公開出願番号):特開2001-035799
出願日: 1999年07月22日
公開日(公表日): 2001年02月09日
要約:
【要約】【課題】 処理室内の腐食および被処理体の汚染を防止する。【解決手段】 処理室1内に被処理体wを載置して加熱するサセプタ4を設け、該サセプタ4と対向して処理ガスを供給するシャワーヘッド5を設け、前記処理室1の底部側に処理室1内を減圧排気するための排気部9を設けてなる枚葉式熱処理装置において、前記処理室1の少なくとも内面を石英により形成すると共に、底部側隅部を流線形13に形成した。
請求項(抜粋):
処理室内に被処理体を載置して加熱するサセプタを設け、該サセプタと対向して処理ガスを供給するシャワーヘッドを設け、前記処理室の底部側に処理室内を減圧排気するための排気部を設けてなる枚葉式熱処理装置において、前記処理室の少なくとも内面を石英により形成すると共に、底部側隅部を流線形に形成したことを特徴とする枚葉式熱処理装置。
IPC (8件):
H01L 21/205
, C23C 16/44
, F27B 5/14
, F27B 5/16
, F27B 5/18
, F27D 7/02
, H01L 21/22 501
, H01L 21/324
FI (9件):
H01L 21/205
, C23C 16/44 B
, F27B 5/14
, F27B 5/16
, F27B 5/18
, F27D 7/02 A
, H01L 21/22 501 H
, H01L 21/324 G
, H01L 21/324 R
Fターム (47件):
4K030CA12
, 4K030DA09
, 4K030EA04
, 4K030EA11
, 4K030GA02
, 4K030KA09
, 4K030KA22
, 4K030KA46
, 4K061AA01
, 4K061BA11
, 4K061CA08
, 4K061CA17
, 4K061DA00
, 4K061DA05
, 4K061FA07
, 4K061FA12
, 4K061GA02
, 4K061GA04
, 4K063AA05
, 4K063BA12
, 4K063CA03
, 4K063DA12
, 4K063DA14
, 4K063DA15
, 4K063DA33
, 4K063FA02
, 4K063FA13
, 5F045AA06
, 5F045AB31
, 5F045BB02
, 5F045BB14
, 5F045BB15
, 5F045DP03
, 5F045EB02
, 5F045EB08
, 5F045EC05
, 5F045EE02
, 5F045EE04
, 5F045EE07
, 5F045EF05
, 5F045EF11
, 5F045EF20
, 5F045EK07
, 5F045EK14
, 5F045EM02
, 5F045EM09
, 5F045EN04
引用特許:
出願人引用 (8件)
-
枚葉式ホットウォール処理装置及びそのクリーニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-254683
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
処理装置のクリーニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-256507
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
枚葉式熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-085574
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
-
プラズマCVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-000487
出願人:国際電気株式会社
-
特開平4-022126
-
半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-307420
出願人:富士通株式会社
-
化学気相成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-063014
出願人:三菱電機株式会社
-
プラズマCVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-021256
出願人:国際電気株式会社
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審査官引用 (9件)
-
プラズマCVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-000487
出願人:国際電気株式会社
-
枚葉式ホットウォール処理装置及びそのクリーニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-254683
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
処理装置のクリーニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-256507
出願人:東京エレクトロン株式会社
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化学気相成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-063014
出願人:三菱電機株式会社
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プラズマCVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-021256
出願人:国際電気株式会社
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枚葉式熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-085574
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
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特開平4-022126
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半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-307420
出願人:富士通株式会社
-
特開平4-022126
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