特許
J-GLOBAL ID：201003081286581001
反射防止構造体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-113483
公開番号（公開出願番号）：特開2010-186198
出願日： 2010年05月17日
公開日（公表日）： 2010年08月26日
要約：
【課題】製造が容易であり、無反射に近い反射防止効果を発揮することができ、石英ガラス等の融点が高い部材に対しても転写により微細構造を付与することもできる反射防止構造体の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス状炭素からなる基材に対して酸素を含むガスを用いてイオンビーム加工を施すことにより該基材の表面に、先端に向けて縮径した針状又は錐状の形状を有する前記ガラス状炭素の微細な突起群からなる反射防止構造を形成する工程を含むことを特徴とする反射防止構造体の製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガラス状炭素からなる基材に対して酸素を含むガスを用いてイオンビーム加工を施すことにより該基材の表面に、先端に向けて縮径した針状又は錐状の形状を有する前記ガラス状炭素の微細な突起群からなる反射防止構造を形成する工程を含むことを特徴とする反射防止構造体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2K009AA01
, 2K009BB02
, 2K009DD07
, 2K009DD15
, 2K009DD17
