特許
J-GLOBAL ID：201003084102252778

ガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法

発明者：
床嶋 裕人

床嶋 裕人 について

, 
井田 純一

井田 純一 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (2件)： 重野 剛 ,  有永 俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-191016
公開番号（公開出願番号）：特開2010-023002
出願日： 2008年07月24日
公開日（公表日）： 2010年02月04日
要約：
【課題】長期間にわたって連続的かつ安定的に運転することが可能なガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法を提供する。【解決手段】脱気膜モジュール10で脱気した後の脱気水を、気体溶解膜モジュール20の液相室22内に供給する。酸素(目的ガス)を、目的ガス供給源31から気相室23内に供給する。ここで、気相室23に供給する酸素量が、液相室22に供給する脱気水の供給水量から算出される飽和溶解量よりも多い酸素量となるようにする。気相室23に供給した酸素のうち、前記の算出される飽和溶解量が脱気水に溶解し、飽和酸素水が得られる。酸素の残部が、余剰ガスとして気相室23外に排出される。この余剰ガスと共に、気相室23内の凝縮水が排出されるので、運転を停止して気相室23内の凝縮水を排出する必要がなくなり、連続して効率よく飽和酸素水を製造することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
気体透過膜によって気相室と液相室に区画された気体溶解膜モジュールと、該気体溶解膜モジュールに供給される水を脱気処理する脱気装置とを有するガス溶解水供給装置において、 該気体溶解膜モジュールの気相室に供給するガス量を、該液相室への供給水量から算出される飽和溶解量よりも多いガス量とし、 該気相室の下端部を大気開放とし、 該気相室に供給したガスのうち溶解しなかった余剰分を排出しながら、ガスを溶解させることを特徴とするガス溶解水供給装置。
IPC (7件)：
B01F 1/00 ,  B01F 5/06 ,  B01F 3/04 ,  B01F 15/04 ,  B01D 61/00 ,  B01D 19/00 ,  C02F 1/20
FI (7件)：
B01F1/00 A ,  B01F5/06 ,  B01F3/04 Z ,  B01F15/04 Z ,  B01D61/00 ,  B01D19/00 H ,  C02F1/20 A
Fターム (35件)：
4D006GA32 ,  4D006GA35 ,  4D006MA03 ,  4D006MC23 ,  4D006MC30 ,  4D006MC49 ,  4D006MC62 ,  4D006MC65 ,  4D006MC81 ,  4D006PB02 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  4D011AA16 ,  4D011AA17 ,  4D011AC06 ,  4D011AD03 ,  4D011AD06 ,  4D037AA01 ,  4D037AB11 ,  4D037AB12 ,  4D037BA23 ,  4D037BB07 ,  4G035AA01 ,  4G035AB28 ,  4G035AC26 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G037BA02 ,  4G037BB06 ,  4G037BB07 ,  4G037BD04 ,  4G037EA01
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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