特許
J-GLOBAL ID:201003085540097676
ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
植木 久一
, 菅河 忠志
, 二口 治
, 伊藤 浩彰
, 植木 久彦
, 植村 純子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-016935
公開番号(公開出願番号):特開2010-174310
出願日: 2009年01月28日
公開日(公表日): 2010年08月12日
要約:
【課題】装置の大幅な改造をせず汎用的な真空チャンバを用いて、プラズマCVD法によりダイヤモンドライクカーボン膜の高速成膜を安定して行う方法を提供する。【解決手段】プラズマCVD法で基材上にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する方法であって、基材に印加する電圧をバイポーラDCパルス電圧とすると共に、チャンバ内に供給するガスとしてトルエン含有ガスを用い、かつ、チャンバ内のガスの全圧を4Pa以上7Pa以下にしてダイヤモンドライクカーボン膜を形成する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
プラズマCVD法で基材上にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する方法であって、
基材に印加する電圧をバイポーラDCパルス電圧とすると共に、
チャンバ内に供給するガスとしてトルエン含有ガスを用い、かつ、
チャンバ内のガスの全圧を4Pa以上7Pa以下にしてダイヤモンドライクカーボン膜を形成することを特徴とするダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法。
IPC (3件):
C23C 16/27
, H01L 21/31
, H01L 21/205
FI (3件):
C23C16/27
, H01L21/31 C
, H01L21/205
Fターム (28件):
4K030AA09
, 4K030AA16
, 4K030BA28
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030DA02
, 4K030FA01
, 4K030JA06
, 4K030JA17
, 4K030JA18
, 4K030KA14
, 4K030LA23
, 5F045AA08
, 5F045AA19
, 5F045AB07
, 5F045AB40
, 5F045AC07
, 5F045AC16
, 5F045AE17
, 5F045AF03
, 5F045BB08
, 5F045DP09
, 5F045DP25
, 5F045DQ10
, 5F045EB02
, 5F045EC01
, 5F045EH09
, 5F045EH20
引用特許:
引用文献:
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