特許
J-GLOBAL ID:201003085540097676

ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰 ,  植木 久彦 ,  植村 純子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-016935
公開番号(公開出願番号):特開2010-174310
出願日: 2009年01月28日
公開日(公表日): 2010年08月12日
要約:
【課題】装置の大幅な改造をせず汎用的な真空チャンバを用いて、プラズマCVD法によりダイヤモンドライクカーボン膜の高速成膜を安定して行う方法を提供する。【解決手段】プラズマCVD法で基材上にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する方法であって、基材に印加する電圧をバイポーラDCパルス電圧とすると共に、チャンバ内に供給するガスとしてトルエン含有ガスを用い、かつ、チャンバ内のガスの全圧を4Pa以上7Pa以下にしてダイヤモンドライクカーボン膜を形成する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
プラズマCVD法で基材上にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する方法であって、 基材に印加する電圧をバイポーラDCパルス電圧とすると共に、 チャンバ内に供給するガスとしてトルエン含有ガスを用い、かつ、 チャンバ内のガスの全圧を4Pa以上7Pa以下にしてダイヤモンドライクカーボン膜を形成することを特徴とするダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法。
IPC (3件):
C23C 16/27 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/205
FI (3件):
C23C16/27 ,  H01L21/31 C ,  H01L21/205
Fターム (28件):
4K030AA09 ,  4K030AA16 ,  4K030BA28 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA02 ,  4K030FA01 ,  4K030JA06 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  4K030KA14 ,  4K030LA23 ,  5F045AA08 ,  5F045AA19 ,  5F045AB07 ,  5F045AB40 ,  5F045AC07 ,  5F045AC16 ,  5F045AE17 ,  5F045AF03 ,  5F045BB08 ,  5F045DP09 ,  5F045DP25 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB02 ,  5F045EC01 ,  5F045EH09 ,  5F045EH20
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
引用文献:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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