特許

J-GLOBAL ID：201003092848387779

ダイシング装置及びワーク洗浄乾燥方法

発明者： 古谷田 昌信 ,  新井 裕介
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-219994
公開番号（公開出願番号）：特開2010-056312
出願日： 2008年08月28日
公開日（公表日）： 2010年03月11日
要約：

【課題】 ワークを取り出す際に周囲に飛沫を飛散させることなくワークの洗浄または乾燥が容易に行えるダイシング装置及びワーク洗浄乾燥方法を提供すること。【解決手段】 ワークテーブル6からワークWの搬出を行う搬出口8に隣接するようにワークWを差し込む開口部18が設けられたワーククリーナ10により、開口部18より差し込まれたワークWを洗浄または乾燥する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

円盤状のブレードと、 前記ブレードを回転させるスピンドルと、 前記ブレードにより切削加工されるワークを保持するワークテーブルと、 前記ワークテーブルと前記ブレードとを相対的に移動させる移動軸と、 前記ワークテーブルから前記ワークの搬出を行う搬出口と、 前記ワークを差し込む開口部が設けられ、前記開口部より差し込まれた前記ワークを流体により洗浄または乾燥するワーククリーナと、を備えたことを特徴とするダイシング装置。

IPC (3件)：

H01L 21/301 ,  B08B 3/12 ,  B08B 3/02

FI (4件)：

H01L21/78 F ,  H01L21/78 P ,  B08B3/12 A ,  B08B3/02 B

Fターム (5件)：

3B201AA03 ,  3B201AB40 ,  3B201BB02 ,  3B201BB23 ,  3B201BB33

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ダイシング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-256038   出願人：株式会社東京精密

審査官引用 (3件)

• 基板のダイシング方法とその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-161829   出願人：富士通株式会社
• 特開平4-215434
  
• ウェーハ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-343903   出願人：株式会社東京精密