特許
J-GLOBAL ID：201003094186577290

変性シリカの製造方法、絶縁材料用樹脂組成物および絶縁膜用フィルム

発明者：
伊賀 隆志

伊賀 隆志 について


出願人/特許権者：
日本ゼオン株式会社

日本ゼオン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-088536
公開番号（公開出願番号）：特開2010-241852
出願日： 2009年03月31日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：
【課題】環式オレフィン重合体などの重合体に配合した場合の分散性に優れる変性シリカを与えることができる、変性シリカの製造方法を提供する。【解決手段】エポキシ基含有シランカップリング剤で表面処理されたシリカと、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、およびヒドロキシフェニル基から選択される官能基を有する環式オレフィン重合体と、を溶媒中で混合する変性シリカの製造方法。エポキシ基含有シランカップリング剤で表面処理されたシリカの体積平均粒径は1μm以下であることが好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
エポキシ基含有シランカップリング剤で表面処理されたシリカと、カルボキシル基、カルボン酸無水物基およびフェノール性水酸基から選択される官能基を有する環式オレフィン重合体と、を溶媒中で混合する変性シリカの製造方法。
IPC (9件)：
C09C 1/28 ,  C08G 59/62 ,  C08K 9/04 ,  C08L 63/00 ,  C08L 65/00 ,  C08L 45/00 ,  C09C 3/12 ,  C09C 3/10 ,  H01B 3/00
FI (10件)：
C09C1/28 ,  C08G59/62 ,  C08K9/04 ,  C08L63/00 C ,  C08L65/00 ,  C08L45/00 ,  C09C3/12 ,  C09C3/10 ,  H01B3/00 A ,  H01B3/00 G
Fターム (63件)：
4G072AA25 ,  4G072BB07 ,  4G072DD06 ,  4G072GG02 ,  4G072QQ06 ,  4G072UU09 ,  4J002BK001 ,  4J002CD012 ,  4J002CD022 ,  4J002CD052 ,  4J002CD062 ,  4J002CD132 ,  4J002CD142 ,  4J002CE001 ,  4J002DJ016 ,  4J002FB126 ,  4J002GQ01 ,  4J036AD08 ,  4J036AF06 ,  4J036AG00 ,  4J036AH00 ,  4J036AJ02 ,  4J036AJ08 ,  4J036AJ09 ,  4J036AJ18 ,  4J036AJ20 ,  4J036AJ21 ,  4J036DA02 ,  4J036DB15 ,  4J036DC05 ,  4J036DC06 ,  4J036DC12 ,  4J036DC19 ,  4J036DC31 ,  4J036DC38 ,  4J036DC41 ,  4J036FA05 ,  4J036FB01 ,  4J036FB06 ,  4J036HA06 ,  4J036HA12 ,  4J036JA05 ,  4J036JA08 ,  4J036KA01 ,  4J037AA18 ,  4J037CB23 ,  4J037CC12 ,  4J037CC16 ,  4J037CC17 ,  4J037CC23 ,  4J037EE03 ,  4J037EE08 ,  4J037EE28 ,  4J037FF11 ,  4J037FF15 ,  4J037FF23 ,  5G303AA07 ,  5G303AB20 ,  5G303BA12 ,  5G303CA08 ,  5G303CA09 ,  5G303CB30 ,  5G303CD01
引用特許：
審査官引用 (6件)
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