特許
J-GLOBAL ID：201003096688825869

ガス拡散電極およびその製法

発明者：
大坂 武男

大坂 武男 について

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ベグム ナディラ フェルドウシ

ベグム ナディラ フェルドウシ について

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岡島 武義

岡島 武義 について

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鈴木 智久

鈴木 智久 について

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錦 善則

錦 善則 について


出願人/特許権者：
ペルメレック電極株式会社

ペルメレック電極株式会社 について

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国立大学法人東京工業大学

国立大学法人東京工業大学 について


代理人 (3件)： 竹沢 荘一 ,  中馬 典嗣 ,  森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-136659
公開番号（公開出願番号）：特開2010-280974
出願日： 2009年06月05日
公開日（公表日）： 2010年12月16日
要約：
【課題】白金族金属や金属酸化物より安価で電極活性の高いガス拡散電極を提供する。更に電極の劣化も防止され、従って電気化学システムの安定化と電極寿命の長期化を達成できるガス拡散電極を提供する。【構成】導電性基材表面に形成した白金族系等の主触媒粒子の表面に、タンタル等金属及び/又は金属酸化物を含む助触媒層を形成したガス拡散電極。主触媒粒子の表面に、助触媒層を形成することにより、助触媒層の活性が相乗的に上昇する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
導電性基材、該導電性基材表面に形成した、Pt、Ir、Ru、Pd、Rh、Ag、及びランタン系金属、弁金属から選択される少なくとも1種類の金属及び/又は金属酸化物を含む主触媒粒子、及び該主触媒粒子上に形成したTa、Ti、Nb、Zr、Wから選択される少なくとも1種の金属及び/又は金属酸化物を含む助触媒層を含んで成ることを特徴とするガス拡散電極。
IPC (3件)：
C25B 11/06 ,  C25B 11/08 ,  C25B 11/03
FI (3件)：
C25B11/06 Z ,  C25B11/08 A ,  C25B11/03
Fターム (10件)：
4K011AA01 ,  4K011AA06 ,  4K011AA11 ,  4K011AA23 ,  4K011AA33 ,  4K011AA34 ,  4K011CA04 ,  4K011CA13 ,  4K011DA03 ,  4K011DA11
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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