特許
J-GLOBAL ID：201003097458981728
基板露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-160253
公開番号（公開出願番号）：特開2010-002571
出願日： 2008年06月19日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：
【課題】フォトマスクの自重による撓みを軽減して、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。【解決手段】露光ステージと、被露光基板の上方からパターン露光を行うため平面視矩形状のフォトマスク(原版)を被露光基板に対向させて被露光基板の上面に水平保持するマスクホルダとを備え、フォトマスクと被露光基板との間に所定の微小間隔をあけて、フォトマスク上方から光を照射して被露光基板にパターン露光を行う基板露光装置において、マスクホルダは、フォトマスクを真空吸着によって固定する原版支持吸着溝1と、該原版支持吸着溝1の外側においてフォトマスクの縁部を下方から真空吸引して下側に張力を発生させる原版支持吸着溝2とを備えている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
感光膜を形成した被露光基板を上面に保持する露光ステージと、前記被露光基板の上方からパターン露光を行うため平面視矩形状のフォトマスク(原版)を前記被露光基板に対向させて前記被露光基板の上面に水平保持するマスクホルダとを備え、前記フォトマスクと被露光基板との間に所定の微小間隔をあけて、前記フォトマスク上方から光を照射して前記被露光基板にパターン露光を行う基板露光装置において、
前記マスクホルダは、前記フォトマスクを真空吸着によって固定する原版支持吸着溝1と、原版支持吸着溝1の外側において前記フォトマスクの縁部を下方から真空吸引して下側に張力を発生させる原版支持吸着溝2とを備えていることを特徴とする基板露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 503D
2H097DA06
, 2H097DA20
, 2H097GA45
, 2H097LA11
, 2H097LA12
, 5F046CC09
, 5F046DA17
