特許
J-GLOBAL ID:201003098314915832
酸ガス流からの硫化水素及び二酸化炭素の除去方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
奥村 義道
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-522382
公開番号(公開出願番号):特表2010-536573
出願日: 2008年08月29日
公開日(公表日): 2010年12月02日
要約:
(a)H2SとCO2を含む酸ガス流中のH2SをSO2と反応させて硫黄蒸気と水蒸気を形成し、CO2、水蒸気、硫黄蒸気、残存SO2及び残存H2Sを含む第一オフガス流を得る工程、(b)第一オフガス流中の残存SO2を第一オフガス処理反応器中でH2Sに転化し、第一オフガス流に比べてSO2が枯渇し、H2SとCO2に富む第二オフガス流を得る工程、(c)第二オフガス流をH2S吸収性液体と接触させて第二オフガス流からH2SをH2S吸収性液体に移行させ、H2Sに富むH2S吸収性液体とCO2に富む第三オフガス流を得る工程、(d)第三オフガス流をCO2吸収器中でCO2吸収性液体と接触させ、CO2を第三オフガス流からCO2吸収性液体に移行させて第三オフガス流からCO2を除去し、CO2に富むCO2吸収性液体と精製ガスを得る工程を含む酸ガス流からのH2S及びCO2の除去方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(a)H2S及びCO2を含む酸ガス流中のH2SをSO2と反応させて硫黄蒸気及び水蒸気を形成し、これによりCO2、水蒸気、硫黄蒸気、残存SO2及び残存H2Sを含有する第一オフガス流を得る工程、
(b)第一オフガス流中の残存SO2を第一オフガス処理反応器中でH2Sに転化し、これにより第一オフガス流に比べて、SO2が枯渇し、かつH2S及びCO2に富む第二オフガス流を得る工程、
(c)第二オフガス流をH2S吸収性液体と接触させ、これにより第二オフガス流からH2SをH2S吸収性液体に移行させ、H2Sに富むH2S吸収性液体及びCO2に富む第三オフガス流を得る工程、
(d)第三オフガス流をCO2吸収器中でCO2吸収性液体と接触させ、これによりCO2を第三オフガス流からCO2吸収性液体に移行させて第三オフガス流からCO2除去し、CO2に富むCO2吸収性液体と精製ガスとを得る工程、
を含む、H2S及びCO2を含む酸ガス流からのH2S及びCO2の除去方法。
IPC (7件):
B01D 53/52
, B01D 53/77
, B01D 53/14
, C01B 17/16
, C01B 31/20
, B01D 53/62
, C10L 3/10
FI (7件):
B01D53/34 127D
, B01D53/14 102
, C01B17/16 P
, C01B31/20 B
, B01D53/34 135Z
, B01D53/14 103
, C10L3/00 B
Fターム (28件):
4D002AA03
, 4D002AA09
, 4D002AB01
, 4D002AC10
, 4D002BA02
, 4D002CA02
, 4D002CA07
, 4D002DA31
, 4D002DA32
, 4D002DA35
, 4D002EA08
, 4D002FA01
, 4D002HA02
, 4D002HA09
, 4D020AA03
, 4D020AA04
, 4D020BA16
, 4D020BA18
, 4D020BB03
, 4D020BC01
, 4D020BC02
, 4D020CA05
, 4D020CB08
, 4D020CB18
, 4G146JA02
, 4G146JB10
, 4G146JC28
, 4G146JC29
引用特許:
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