特許
J-GLOBAL ID:201003098314915832

酸ガス流からの硫化水素及び二酸化炭素の除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 奥村 義道
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-522382
公開番号(公開出願番号):特表2010-536573
出願日: 2008年08月29日
公開日(公表日): 2010年12月02日
要約:
(a)H2SとCO2を含む酸ガス流中のH2SをSO2と反応させて硫黄蒸気と水蒸気を形成し、CO2、水蒸気、硫黄蒸気、残存SO2及び残存H2Sを含む第一オフガス流を得る工程、(b)第一オフガス流中の残存SO2を第一オフガス処理反応器中でH2Sに転化し、第一オフガス流に比べてSO2が枯渇し、H2SとCO2に富む第二オフガス流を得る工程、(c)第二オフガス流をH2S吸収性液体と接触させて第二オフガス流からH2SをH2S吸収性液体に移行させ、H2Sに富むH2S吸収性液体とCO2に富む第三オフガス流を得る工程、(d)第三オフガス流をCO2吸収器中でCO2吸収性液体と接触させ、CO2を第三オフガス流からCO2吸収性液体に移行させて第三オフガス流からCO2を除去し、CO2に富むCO2吸収性液体と精製ガスを得る工程を含む酸ガス流からのH2S及びCO2の除去方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(a)H2S及びCO2を含む酸ガス流中のH2SをSO2と反応させて硫黄蒸気及び水蒸気を形成し、これによりCO2、水蒸気、硫黄蒸気、残存SO2及び残存H2Sを含有する第一オフガス流を得る工程、 (b)第一オフガス流中の残存SO2を第一オフガス処理反応器中でH2Sに転化し、これにより第一オフガス流に比べて、SO2が枯渇し、かつH2S及びCO2に富む第二オフガス流を得る工程、 (c)第二オフガス流をH2S吸収性液体と接触させ、これにより第二オフガス流からH2SをH2S吸収性液体に移行させ、H2Sに富むH2S吸収性液体及びCO2に富む第三オフガス流を得る工程、 (d)第三オフガス流をCO2吸収器中でCO2吸収性液体と接触させ、これによりCO2を第三オフガス流からCO2吸収性液体に移行させて第三オフガス流からCO2除去し、CO2に富むCO2吸収性液体と精製ガスとを得る工程、 を含む、H2S及びCO2を含む酸ガス流からのH2S及びCO2の除去方法。
IPC (7件):
B01D 53/52 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/14 ,  C01B 17/16 ,  C01B 31/20 ,  B01D 53/62 ,  C10L 3/10
FI (7件):
B01D53/34 127D ,  B01D53/14 102 ,  C01B17/16 P ,  C01B31/20 B ,  B01D53/34 135Z ,  B01D53/14 103 ,  C10L3/00 B
Fターム (28件):
4D002AA03 ,  4D002AA09 ,  4D002AB01 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002CA02 ,  4D002CA07 ,  4D002DA31 ,  4D002DA32 ,  4D002DA35 ,  4D002EA08 ,  4D002FA01 ,  4D002HA02 ,  4D002HA09 ,  4D020AA03 ,  4D020AA04 ,  4D020BA16 ,  4D020BA18 ,  4D020BB03 ,  4D020BC01 ,  4D020BC02 ,  4D020CA05 ,  4D020CB08 ,  4D020CB18 ,  4G146JA02 ,  4G146JB10 ,  4G146JC28 ,  4G146JC29
引用特許:
審査官引用 (17件)
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