特許
J-GLOBAL ID：201003098928084031

基板処理装置

発明者：
濱田 哲也

濱田 哲也 について

, 
田口 隆志

田口 隆志 について


出願人/特許権者：
株式会社SOKUDO

株式会社SOKUDO について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-066808
公開番号（公開出願番号）：特開2010-219434
出願日： 2009年03月18日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：
【課題】スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】洗浄乾燥処理ブロック14Aおよび搬入搬出ブロック14Bにより、インターフェイスブロック14が構成される。洗浄乾燥処理ブロック14Aは、洗浄乾燥処理部161,162および搬送部163を含む。搬送部163には、搬送機構141,142が設けられる。搬入搬出ブロック14Bには、搬送機構146が設けられる。搬送機構146は、露光装置15に対する基板Wの搬入および搬出を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、 基板に処理を行う処理部と、 前記処理部と前記露光装置との間に配置され、基板に処理を行うとともに前記露光装置に対して基板の搬入および搬出を行う受け渡し部と、 前記処理部と前記受け渡し部との間に配置され、基板を載置するための第1の載置部とを備え、 前記受け渡し部は、 基板に処理を行うための第1および第2の処理領域と、 前記第1の載置部、前記第1の処理領域および前記露光装置の間で基板を搬送可能に構成された第1の基板搬送機構と、 前記第1の載置部、前記第2の処理領域および前記露光装置の間で基板を搬送可能に構成された第2の基板搬送機構とを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/677 ,  B65G 49/07
FI (4件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/30 514D ,  H01L21/68 A ,  B65G49/07 D
Fターム (21件)：
5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031DA08 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA03 ,  5F031GA43 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA13 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F046AA28 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-032691   出願人：株式会社SOKUDO
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-134065   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 塗布、現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-025509   出願人：東京エレクトロン株式会社
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