特許
J-GLOBAL ID：200903024396225907

基板処理装置

発明者：
枦木 憲二

枦木 憲二 について

, 
田口 隆志

田口 隆志 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-134065
公開番号（公開出願番号）：特開2008-288498
出願日： 2007年05月21日
公開日（公表日）： 2008年11月27日
要約：
【課題】露光処理完了から露光後加熱処理開始までの時間を確実に一定にすることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】レジスト膜が形成された基板Wは基板載置部PASS9に載置された後、インターフェイスブロック5の受渡ロボットBRによって送り基板載置部SPASSに渡され、さらに送り搬送ロボットSBRによって露光ユニットEXPに送り出される。一方、露光ユニットEXPにてパターン露光の施された基板Wは戻り搬送ロボットRBRによって受け取られて戻り基板載置部RPASSに載置された後、搬送ロボットTR4によって露光後加熱処理を行う加熱部PHP7〜PHP12のいずれかに搬送される。戻り搬送ロボットRBRおよび搬送ロボットTR4は露光後の基板Wの搬送に専念できるため、露光処理完了から露光後加熱処理開始までの時間を確実に一定にすることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レジスト膜の形成処理を行った基板を露光装置に渡すとともに、当該露光装置から受け取った露光後の基板に現像処理を行う基板処理装置であって、 基板上にレジスト膜を形成するレジスト膜形成部と、 露光後の基板に対して露光後加熱処理を行う露光後加熱部と、 レジスト膜の形成処理が終了した基板のみを搬送して前記露光装置に送り出す送り専用搬送ロボットと、 前記露光装置から露光後の基板のみを受け取って前記露光後加熱部に搬送する戻り専用搬送ロボットと、 前記露光装置における露光処理が完了してから前記露光後加熱部に露光後の基板を搬送するまでの時間が一定となるように前記戻り専用搬送ロボットを制御する搬送制御手段と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 562
Fターム (3件)：
5F046AA17 ,  5F046JA22 ,  5F046KA10
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 塗布現像処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-222228   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-134240   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-186075   出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (6件)
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