特許
J-GLOBAL ID：200903092505842020

基板処理装置

発明者：
濱田 哲也

濱田 哲也 について

, 
亀井 謙治

亀井 謙治 について


出願人/特許権者：
株式会社SOKUDO

株式会社SOKUDO について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-032691
公開番号（公開出願番号）：特開2007-214365
出願日： 2006年02月09日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：
【課題】基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を防止できる基板処理装置を提供することである。【解決手段】基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15を備える。インターフェースブロック15に隣接するように露光装置16が配置される。インターフェースブロック15は、裏面洗浄処理ユニットRSWを含む。裏面洗浄処理ユニットRSWにおいて、露光処理前に基板Wの裏面が洗浄される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、 基板の表面に処理を行うための処理部と、 前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、 前記処理部は、 基板の表面に感光性材料からなる感光性膜を形成する感光性膜形成ユニットを含み、 前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、 前記露光装置による露光処理前に基板の裏面を洗浄する裏面洗浄ユニットを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/02 ,  G11B 7/26 ,  G02F 1/13
FI (10件)：
H01L21/30 565 ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 644A ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/304 648A ,  H01L21/304 648G ,  B08B1/04 ,  B08B3/02 B ,  G11B7/26 501 ,  G02F1/13 101
Fターム (42件)：
2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB03 ,  3B116AB23 ,  3B116AB34 ,  3B116AB42 ,  3B116BA02 ,  3B116BA13 ,  3B116BB22 ,  3B116BB38 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CD41 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BA02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB99 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CC15 ,  3B201CD41 ,  5D121BA00 ,  5D121BA01 ,  5D121BB00 ,  5D121BB38 ,  5D121GG18 ,  5D121GG28 ,  5F046JA22
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129817   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (11件)
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