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J-GLOBAL ID：201102202796787580   整理番号：11A0799340

Si/SiO₂ 多層式AFM探針による特性評価装置の開発

Development of Si/SiO₂ Multilayer Type AFM Tip Characterizers

著者 (8件)： TAKENAKA Hisataka (NTT Advanced Technol. Co., Kanagawa, JPN) ,  HATAYAMA Masatoshi (NTT Advanced Technol. Co., Kanagawa, JPN) ,  ITO Hisashi (NTT Advanced Technol. Co., Kanagawa, JPN) ,  OHCHI Tadayuki (NTT Advanced Technol. Co., Kanagawa, JPN) ,  TAKANO Akio (NTT Advanced Technol. Co., Kanagawa, JPN) ,  KUROSAWA Satoru (NTT Advanced Technol. Co., Kanagawa, JPN) ,  ITOH Hiroshi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  ICHIMURA Shingo (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名： Journal of Surface Analysis  (Journal of Surface Analysis)
巻： 17  号： 3  ページ： 264-268  発行年： 2011年03月 
JST資料番号： L3852A  ISSN： 1341-1756  CODEN： JSANFX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 10nmから100nm範囲のナノ構造を分析するのに使用される新型AFM探針分析装置を,開発した。この特性評価装置を,断面Si/SiO2多層の縁部を優先エッチング処理によって,製造した。単独線構造,及び,線-空間構造の2つを,製造した。製造した探針分析装置の構造特性,及び,実用性を評価し,この装置が,10nmから100nm範囲のAFM探針構造の分析に使えることを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  *原子間力顕微鏡 ,  *プローブ ,  ケイ素 ,  二酸化ケイ素 ,  多層膜 ,  エッチング
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】

分類 (1件)： 顕微鏡法  (BK01040E)

引用文献 (16件)：

• [1] R. Dixson, N. Sullivan, J. Schneirl, T. McWaidl, V. W. Tsai, J. Prochazka and M. Young, Proc. SPIE 2725, 572 (1996).
• [2] J. S. Villarrubia, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 102, 425 (1997).
• [3] L. S. Dongmo, J. S. Villarrubia, S. N. Jones, T. B. Renegar, M. T. Postek and J. F. Song, Ultramicroscopy 85, 141 (2000).
• [4] S. Xu and M. F. Arnsdorf, J. Microsopy 173, 199 (1994).
• [5] Y. Liand and S. M. Lindsay, Rev. Sci. Instrum. 62, 2630 (1991).

タイトルに関連する用語 (7件)： Si ,  SiO2 ,  多層 ,  AFM ,  探針 ,  特性評価 ,  開発