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J-GLOBAL ID：201102209019552353   整理番号：11A1130776

放電励起希土類プラズマからの極端紫外光放射

Extreme ultraviolet emission from discharge-produced Rare-earth plasma

著者 (5件)： 大塚崇光 (宇都宮大) ,  東口武史 (宇都宮大) ,  湯上登 (宇都宮大) ,  JIANG Weihua (長岡技科大) ,  遠藤彰 (早稲田大)
資料名： 電気学会パルスパワー研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PPT-11  号： 14-17.19-24  ページ： 43-48  発行年： 2011年06月03日 
JST資料番号： L4030A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体リソグラフィー露光光源には,解像度の向上・生産コスト低減の問題がある。そこで,希土類プラズマからの波長6.7mm領域におけるEUV(Extreme ultraviolet)放射の特性を検討した。その結果,波長13.5mmにおけるSnプラズマと同様な振舞いを示すことが明らかになった。低密度ターゲットを用いたときの変換効率は約13%であった。放電生成プラズマ方式用いて観測されたスペクトルからも低密度プラズマ生成が有効であることも明らかになった。

シソーラス用語： *極端紫外線 ,  光源 ,  希土類元素 ,  放電励起 ,  *放射特性 ,  *フォトリソグラフィー ,  製造 ,  分解能 ,  *レーザプラズマ ,  EUV光源 ,  *プラズマ
準シソーラス用語： *EUV ,  希土類 ,  *EUVリソグラフィー ,  半導体デバイス製造 ,  解像度 ,  *レーザ生成プラズマ

分類 (1件)： 分光法と分光計一般  (BD07041Q)

引用文献 (27件)：

• (1) D. T. Attwood : Soft X-rays and Extreme Ultraviolet Radiation, Chap 6, Cambrige University Press, Cambridge (2000).
• (2) V. Bakshi' EUV Sources for Lithography, Chap 11, SPIE, Washington (2006).
• (3) H. Tanaka, A. Matsumoto, K. Akinaga, A. Takahashi, and T. Okada : "Comparative study on emission characteristics of extreme ultraviolet radiation from CO2 and Nd:YAG laser-produced tin plasmas", Applied Physics Letters, Vol.87, pp.041503-1-041503-3 (2005).
• (4) Y. Ueno, G. Soumagne, A. Sumitani, A. Endo, and T. Higashiguchi : "Enhancement of extreme ultraviolet emission from a CO2 laser-produced Sn plasma using a cavity target", Applied Physics Letters, Vol.91, pp 231501-1-231501-3 (2007).
• (5) S. Fujioka, M Shimomura, Y. Shimada, S. Maeda, H. Sakaguchi, Y. Nakai, T Aota, H. Nishimura, N. Ozaki, A. Sunahara, K Nishihara, N. Miyanaga, Y. Izawa, and K Mima "Pure-tin microdroplets irradiated with double laser pulses for efficient and minimum-mass extreme-ultraviolet light source production", Applied Physics Letters, Vol.92, pp.241502-1-241502-3 (2008).

タイトルに関連する用語 (5件)： 放電励起 ,  希土類 ,  プラズマ ,  極端紫外光 ,  放射