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J-GLOBAL ID：201102244261136836   整理番号：11A0976760

Alテープ上に作製したMgB₂薄膜の微細組織構造

著者 (9件)： 嶋田雄介 (九大) ,  久保田雄貴 (九大) ,  波多聰 (九大) ,  池田賢一 (九大) ,  中島英治 (九大) ,  土井俊哉 (京大) ,  吉原和樹 (鹿児島大) ,  松本明善 (物質・材料研究機構) ,  北口仁 (物質・材料研究機構)
資料名： 低温工学・超電導学会講演概要集  (低温工学・超電導学会秋季講演概要集)
巻： 84th  ページ： 45  発行年： 2011年05月18日 
JST資料番号： G0564B  ISSN： 0919-5998  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 最近電子ビーム蒸着法によりAlテープ上に作製されたMgB2薄膜において,特に高磁場領域においてSi上に生成したものと比べて臨界電流密度(Jc)特性が大きく改善しており,新たな線材製造方法として期待されている。本研究では,基板の影響について考察するため,Alテープ上に作製したMgB2薄膜の微細組織観察を行い,過去に我々のグループが行ったSi基板上のMgB2薄膜との組織の比較を行った。(著者抄録)

シソーラス用語： 電子ビーム蒸着 ,  アルミニウム ,  テープ ,  *超伝導薄膜 ,  *組織構造 ,  金属薄膜 ,  薄膜 ,  結晶 ,  結晶粒径 ,  *ホウ化物 ,  *マグネシウム化合物
準シソーラス用語： ホウ化マグネシウム ,  柱状結晶

分類 (2件)： 金属系超伝導体の物性  (BM04022R) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： Al ,  テープ ,  作製 ,  MgB2 ,  薄膜 ,  微細組織